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等离子体电解氧化法在Ti表面制备薄膜研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-8页
第一章 绪论第8-16页
   ·引言第8-12页
     ·微弧氧化发展现状第8-9页
     ·微弧氧化工艺特点第9-10页
     ·微弧氧化膜层特征第10-12页
   ·微弧氧化反应原理第12-13页
     ·微弧氧化的反应过程第12页
     ·微弧氧化电击穿原理第12-13页
   ·电解液中加入AgNO_3应用及意义第13-14页
   ·微弧氧化前景第14-16页
第二章 微弧氧化实验设备及实验过程第16-24页
   ·微弧氧化实验设备以及实验电源第16-18页
     ·微弧氧化实验设备第16-17页
     ·实验电源第17-18页
   ·金属基体及处理工艺第18页
     ·金属样品第18页
     ·金属基体处理第18页
   ·微弧氧化实验方法及过程第18-19页
     ·实验所用电解液第18-19页
     ·微弧氧化实验过程第19页
   ·氧化后样品分析实验第19-24页
     ·形貌和组成分析实验第19-20页
     ·相结构分析实验第20-21页
     ·亲水性分析实验第21-22页
     ·膜层耐腐蚀性分析实验第22页
     ·添加AgNO_3时膜层的抗菌性能实验第22-24页
第三章 微弧氧化膜层特性分析第24-44页
   ·膜层成分及相结构分析第24-30页
   ·膜层亲水性分析第30-33页
   ·膜层耐腐蚀性分析第33-34页
   ·添加AgNO_3后膜层的抗菌性能第34-44页
     ·添加AgNO_3溶液中制备的膜层形貌及成分分析第34-40页
     ·含银膜层亲水性测试第40-42页
     ·含银膜层的抗菌特性测试第42-44页
第四章 结论第44-45页
致谢第45-46页
参考文献第46-48页

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