铜基NiCr系高吸收阳光选择性薄膜性能的研究
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
致谢 | 第8-13页 |
第一章 绪论 | 第13-27页 |
·前言 | 第13页 |
·太阳能 | 第13-16页 |
·太阳辐射能量 | 第13-14页 |
·地球表面的太阳辐射能 | 第14-15页 |
·不同大气质量的太阳辐射能 | 第15-16页 |
·太阳光谱选择性吸收薄膜的光学基础理论 | 第16-20页 |
·薄膜的光学参数和光学定律 | 第16-18页 |
·薄膜的干涉 | 第18-19页 |
·介质膜的反射性质 | 第19-20页 |
·太阳光谱选择性吸收薄膜理论 | 第20-25页 |
·理论依据 | 第20-22页 |
·能带理论基础 | 第22-24页 |
·典型的太阳光谱选择性吸收涂层的吸收机理 | 第24-25页 |
·课题的内容和意义 | 第25-27页 |
第二章 多层渐变选择性吸收膜系理论设计 | 第27-35页 |
·前言 | 第27-28页 |
·等效媒质理论 | 第28-30页 |
·减反射膜的设计 | 第30-32页 |
·多层渐变选择性吸收膜系的理论设计 | 第32-33页 |
·截止波长 | 第32页 |
·吸收比和截止波长的反射率 | 第32页 |
·膜系的四层结构 | 第32-33页 |
·本章小结 | 第33-35页 |
第三章 NiCr 膜系的制备 | 第35-45页 |
·前言 | 第35页 |
·电化学法 | 第35页 |
·磁控溅射 | 第35-39页 |
·溅射原理 | 第35-37页 |
·溅射沉积的种类 | 第37-39页 |
·NiCr 系光谱选择性吸收薄膜的制备 | 第39-43页 |
·制备工艺 | 第39-41页 |
·膜系颜色 | 第41-43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第四章 膜系的吸收比和发射率的测量和影响因素 | 第45-53页 |
·前言 | 第45页 |
·吸收比的测量 | 第45-49页 |
·方法介绍 | 第45页 |
·积分法 | 第45-46页 |
·光谱法测量反射谱图 | 第46-48页 |
·NiCr 系光谱选择性吸收薄膜的反射谱图 | 第48-49页 |
·发射率的测量 | 第49-50页 |
·稳态计量法测量半球反射率 | 第49页 |
·NiCr 光谱选择性吸收膜系测量方法 | 第49-50页 |
·膜层厚度对吸收比和反射率的影响 | 第50-51页 |
·基片对发射率的影响 | 第51页 |
·本章小结 | 第51-53页 |
第五章 薄膜的组织成分、表面形貌和光学参数分析 | 第53-59页 |
·前言 | 第53页 |
·样品的透射电镜和X射线衍射分析 | 第53-55页 |
·SEM 观察氧气对表面形貌的影响 | 第55-56页 |
·薄膜的光学参数 | 第56-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第六章 总结和展望 | 第59-61页 |
参考文献 | 第61-64页 |
硕士期间发表的论文 | 第64-65页 |