高功率复合脉冲磁控溅射等离子体特性及TiN薄膜制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题背景 | 第9-10页 |
| ·磁控溅射 | 第10-15页 |
| ·磁控溅射原理 | 第10-11页 |
| ·磁控溅射特点 | 第11页 |
| ·磁控溅射研究现状 | 第11-15页 |
| ·TiN 薄膜及其制备技术 | 第15-16页 |
| ·多弧离子镀 | 第15页 |
| ·离子束辅助磁控溅射 | 第15-16页 |
| ·主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 试验材料与方法 | 第17-21页 |
| ·试验材料及试样制备 | 第17-18页 |
| ·试验材料 | 第17页 |
| ·试样制备 | 第17-18页 |
| ·试验设备及试验过程 | 第18-20页 |
| ·试验设备 | 第18-19页 |
| ·试验过程 | 第19-20页 |
| ·测试方法 | 第20-21页 |
| ·SEM 分析 | 第20页 |
| ·耐腐蚀性能测试 | 第20页 |
| ·摩擦磨损性能测试 | 第20-21页 |
| 第3章 高功率复合脉冲磁控溅射电源研制 | 第21-36页 |
| ·电路模拟 | 第21-22页 |
| ·电源设计 | 第22-25页 |
| ·直流磁控溅射部分 | 第22-23页 |
| ·脉冲磁控溅射部分 | 第23-25页 |
| ·高功率复合脉冲磁控溅射电源调试 | 第25-29页 |
| ·电源调试系统 | 第25页 |
| ·高功率复合脉冲磁控溅射直流部分电源调试 | 第25-26页 |
| ·高功率复合脉冲磁控溅射脉冲部分电源调试 | 第26-29页 |
| ·复合脉冲磁控溅射规律研究 | 第29-35页 |
| ·本章小节 | 第35-36页 |
| 第4章 等离子体密度 | 第36-48页 |
| ·Langmuir 探针基本原理 | 第36-38页 |
| ·高功率复合脉冲磁控溅射等离子体离子密度研究 | 第38-40页 |
| ·高功率复合脉冲磁控溅射等离子体离子密度测量 | 第40-47页 |
| ·等离子体密度测量方案制订 | 第40-42页 |
| ·等离子体密度检测及其规律研究 | 第42-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 高功率复合脉冲磁控溅射TiN 薄膜制备 | 第48-54页 |
| ·式样照片 | 第48-49页 |
| ·表面形貌分析 | 第49-50页 |
| ·膜层截面形貌 | 第49页 |
| ·膜层表面形貌 | 第49-50页 |
| ·摩擦磨损性能分析 | 第50-52页 |
| ·电化学腐蚀性能分析 | 第52-53页 |
| ·本章小节 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
