| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·半导体激光器的发展 | 第7-8页 |
| ·半导体激光器的应用 | 第8-9页 |
| ·论文研究目的及内容 | 第9-11页 |
| 第二章 半导体激光器的物理基础及基本结构 | 第11-17页 |
| ·半导体内粒子跃迁的过程 | 第11-13页 |
| ·半导体激光器的工作原理 | 第13-14页 |
| ·激光器的基本结构 | 第14-17页 |
| 第三章 半导体激光器腔面分析 | 第17-26页 |
| ·半导体激光器腔面的退化现象 | 第17-18页 |
| ·半导体激光器腔面钝化概念 | 第18-19页 |
| ·几种常用的评价钝化效果的方法 | 第19-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第四章 半导体激光器腔面钝化层 | 第26-48页 |
| ·半导体表面的自然氧化物 | 第26-27页 |
| ·氧钝化 | 第27-28页 |
| ·硫钝化 | 第28-35页 |
| ·氢钝化 | 第35-36页 |
| ·氮钝化 | 第36-39页 |
| ·硫化氢等离子体钝化 | 第39-46页 |
| ·钝化层的保护 | 第46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |