| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 图索引 | 第11-14页 |
| 表索引 | 第14-15页 |
| 第一章 综述 | 第15-33页 |
| ·高频薄膜的研究背景 | 第15-19页 |
| ·高频单层薄膜的研究发展 | 第16-18页 |
| ·多层薄膜的研究发展 | 第18-19页 |
| ·交换偏置薄膜体系的发展 | 第19-21页 |
| ·各向异性的测试方法 | 第21-26页 |
| ·静态测量法 | 第21-24页 |
| ·动态测量法 | 第24页 |
| ·转动方法 | 第24-26页 |
| ·论文的研究的意义、目的及主要内容 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-33页 |
| 第二章 交换偏置薄膜的制备及性能表征 | 第33-45页 |
| ·薄膜的制备 | 第33-36页 |
| ·辉光放电的原理 | 第33-34页 |
| ·磁控溅射原理 | 第34-35页 |
| ·FJL560 Ⅰ型超高真空磁控溅射仪 | 第35-36页 |
| ·样品的测试 | 第36-44页 |
| ·表面轮廓分析仪(台阶仪) | 第37页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第37-40页 |
| ·矢量网络分析仪(PNA) | 第40-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第三章 转动磁化曲线的理论计算 | 第45-66页 |
| ·转动磁化曲线的研究背景及由来 | 第45页 |
| ·理论模型的建立 | 第45-64页 |
| ·只存在钉扎作用的薄膜体系的转动磁化曲线计算 | 第47-49页 |
| ·单层单畴单轴磁性薄膜体系的转动磁化曲线计算 | 第49-53页 |
| ·HE和Hk共线交换偏置薄膜体系的转动磁化曲线计算 | 第53-61页 |
| ·HE和Hk不共线的交换偏置体系的转动磁化曲线计算 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-66页 |
| 第四章 静态测量解离FeNi/FeMn体系的两种各向异性场 | 第66-77页 |
| ·单FeNi/FeMn的转动磁化曲线方法研究 | 第66-69页 |
| ·FeNi/FeMn薄膜的制备条件 | 第66页 |
| ·单FeNi/FeMn薄膜的转动磁化曲线 | 第66-68页 |
| ·单轴各向异性场和单向各向异性场的解离 | 第68-69页 |
| ·不同FeNi/FeMn样品的转动磁化研究 | 第69-74页 |
| ·铁磁层或者反铁磁层厚度对交换偏置场的影响 | 第69-71页 |
| ·影响不同样品磁化反磁化过程的因素 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第五章 FeNi/FeMn薄膜体系的高频性能研究 | 第77-88页 |
| ·FeNi/FeMn体系中各向异性分离及高频磁性 | 第77-81页 |
| ·多层FeNi/FeMn薄膜的高频性能研究 | 第81-86页 |
| ·本章小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-88页 |
| 第六章 结论与展望 | 第88-93页 |
| ·结论 | 第88-89页 |
| ·展望 | 第89-90页 |
| ·博士在读期间获得的成果 | 第90-93页 |
| ·以第一作者或通讯联系作者发表的论文 | 第90-92页 |
| ·获得的专利 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
