摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
专用术语的注释表 | 第10-11页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 表面润湿的理论基础 | 第12-17页 |
1.2.1 杨氏方程 | 第13页 |
1.2.2 Wenzel模型 | 第13-14页 |
1.2.3 Cassie-Baxter模型 | 第14-15页 |
1.2.4 Wenzel模型和Cassie-Baxter模型之间的转化 | 第15-16页 |
1.2.5 滚动角 | 第16页 |
1.2.6 接触角滞后理论 | 第16-17页 |
1.3 透明超疏水表面的研究进展 | 第17-22页 |
1.3.1 等离子体刻蚀法 | 第18页 |
1.3.2 气相沉积法 | 第18-19页 |
1.3.3 溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
1.3.4 模板法 | 第20-21页 |
1.3.5 层层自组装法 | 第21-22页 |
1.3.6 微相分离法 | 第22页 |
1.3.7 其他方法 | 第22页 |
1.4 选题意义和课题思路 | 第22-25页 |
1.4.1 选题意义 | 第22-23页 |
1.4.2 课题思路 | 第23-25页 |
第二章 导电超疏水涂层的制备及表征 | 第25-35页 |
2.1 引言 | 第25-26页 |
2.2 实验部分 | 第26-28页 |
2.2.1 主要原料和试剂 | 第26页 |
2.2.2 主要制备及分析表征仪器 | 第26页 |
2.2.3 导电超疏水涂层的制备 | 第26-28页 |
2.3 结果与分析 | 第28-32页 |
2.3.1 SEM表征及分析 | 第28-29页 |
2.3.2 FT-IR和XPS表征分析 | 第29-30页 |
2.3.3 光学特性分析 | 第30-31页 |
2.3.4 导电性分析 | 第31-32页 |
2.3.5 石墨烯含量对涂层性质的影响 | 第32页 |
2.4 本章小结 | 第32-35页 |
第三章 高稳定性超疏水涂层的制备及表征 | 第35-49页 |
3.1 引言 | 第35-36页 |
3.2 实验部分 | 第36-38页 |
3.2.1 主要原料和试剂 | 第36页 |
3.2.2 主要制备及分析表征仪器 | 第36页 |
3.2.3 高稳定性超疏水涂层的制备 | 第36-38页 |
3.3 结果与分析 | 第38-47页 |
3.3.1 SEM表征及分析 | 第38-39页 |
3.3.2 AFM及XPS表征及分析 | 第39-40页 |
3.3.3 光学特性及自清洁功能分析 | 第40-41页 |
3.3.4 KH-560的含量对涂层性质的影响 | 第41-42页 |
3.3.5 超疏水涂层的稳定性分析 | 第42-47页 |
3.4 本章小结 | 第47-49页 |
第四章 总结与展望 | 第49-51页 |
4.1 总结 | 第49-50页 |
4.2 问题与展望 | 第50-51页 |
4.2.1 研究中存在的问题 | 第50页 |
4.2.2 多功能超疏水涂层的展望 | 第50-51页 |
致谢 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-61页 |
作者简介 | 第61页 |