微弧氧化膜替代钛基烤瓷冠遮色层的研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-10页
第1章 绪论	第10-21页
·引言	第10页
·金属烤瓷冠的研究现状	第10-14页
·金属烤瓷冠的结构	第11-12页
·钛烤瓷修复的研究进展	第12-14页
·微弧氧化技术研究概况	第14-17页
·微弧氧化的基本原理	第14-16页
·钛及钛合金微弧氧化技术研究现状	第16-17页
·微弧氧化技术在口腔种植及修复医学中的应用	第17-18页
·微弧氧化在种植体方面的应用	第17-18页
·微弧氧化在烤瓷修复方面的应用研究	第18页
·选题意义和主要研究内容	第18-21页
第2章 试验材料与方法	第21-26页
·试剂及材料	第21-22页
·微弧氧化装置	第22-23页
·试验操作流程	第23页
·氧化膜显微组织结构分析	第23-24页
·氧化膜力学性能分析	第24-26页
第3章 电解液对微弧氧化膜层显微组织的影响	第26-42页
·电解液的选择	第26-32页
·电解液体系的选择	第26-27页
·金属离子的选择	第27-32页
·电解液对膜层表面形貌的影响	第32-34页
·电解液对膜层元素含量的影响	第34-39页
·电解液对膜层相组成的影响	第39-40页
·本章小结	第40-42页
第4章 电源参数对微弧氧化膜层显微组织的影响	第42-53页
·电流密度对微弧氧化膜层的显微组织的影响	第42-47页
·电流密度对膜层表面形貌的影响	第42-46页
·电流密度对膜层相组成的影响	第46-47页
·反应时间对微弧氧化膜层的显微组织的影响	第47-52页
·反应时间对膜层表面形貌的影响	第47-50页
·反应时间对膜层相组成的影响	第50-52页
·本章小结	第52-53页
第5章 氧化陶瓷膜与基体的结合强度	第53-60页
·剪切测试	第53-56页
·三点弯曲测试	第56-59页
·本章小结	第59-60页
结论	第60-61页
参考文献	第61-67页
致谢	第67页