| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 主要符号对照表 | 第12-13页 |
| 第1章 引言 | 第13-34页 |
| ·课题的研究背景及意义 | 第13-14页 |
| ·半导体光催化原理 | 第14-16页 |
| ·提高光催化剂性能的主要途径 | 第16-22页 |
| ·离子掺杂 | 第16-18页 |
| ·半导体的表面贵金属沉积 | 第18-19页 |
| ·半导体的光敏化 | 第19页 |
| ·半导体复合 | 第19-20页 |
| ·光催化与电场耦合 | 第20-22页 |
| ·本论文涉及的几类光催化剂简介 | 第22-26页 |
| ·TiO_2光催化剂及其研究进展 | 第23-24页 |
| ·ZnO 光催化剂及其研究进展 | 第24-25页 |
| ·Bi_2WO_6光催化剂及其研究进展 | 第25-26页 |
| ·共轭分子的性质及相关研究概述 | 第26-32页 |
| ·氮化碳（C_3N_4）的性质和相关研究概述 | 第26-29页 |
| ·石墨烯的性质和相关研究概述 | 第29-30页 |
| ·聚苯胺（PANI）的性质和相关研究概述 | 第30-32页 |
| ·本研究工作的主要内容及意义 | 第32-34页 |
| 第2章 实验部分 | 第34-43页 |
| ·实验药品 | 第34-35页 |
| ·实验仪器 | 第35-41页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱（UV-Vis DRS） | 第35页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第35页 |
| ·拉曼（Raman）光谱 | 第35-36页 |
| ·傅立叶换红外光谱（FT-IR） | 第36页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第36-37页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第37页 |
| ·俄歇电子能谱（AES） | 第37-38页 |
| ·热重-差热分析仪（TGA-DTA） | 第38-39页 |
| ·比表面积测定仪（BET） | 第39页 |
| ·光电性能测试 | 第39页 |
| ·光催化及光电催化评价装置 | 第39-41页 |
| ·样品制备方法简述 | 第41-43页 |
| ·化学吸附法制备共轭分子/半导体杂化光催化剂 | 第41-42页 |
| ·水热法简介 | 第42页 |
| ·溶胶凝胶法简介 | 第42-43页 |
| 第3章 C_3N_4杂化 ZnO 的光催化性能及稳定性研究 | 第43-70页 |
| ·本章引论 | 第43-44页 |
| ·实验部分 | 第44-45页 |
| ·试剂与仪器 | 第44页 |
| ·C_3N_4/ZnO 杂化催化剂的制备 | 第44页 |
| ·ZnO 膜和 C_3N_4/ZnO 膜电极的制备 | 第44-45页 |
| ·光催化评价及光电化学测试 | 第45页 |
| ·C_3N_4/ZnO 杂化催化剂光催化活性及光电流的提高 | 第45-50页 |
| ·紫外光催化活性及光电流的提高 | 第45-48页 |
| ·可见光催化活性及光电流的提高 | 第48-50页 |
| ·抑制光腐蚀 | 第50-53页 |
| ·C_3N_4/ZnO 杂化催化剂的表征 | 第53-59页 |
| ·C_3N_4/ZnO 杂化催化剂形貌及晶体结构表征 | 第53-55页 |
| ·杂化作用 | 第55-56页 |
| ·热重和差热分析 | 第56-57页 |
| ·光学性质 | 第57-59页 |
| ·比表面及孔分布研究 | 第59页 |
| ·活性提高机制 | 第59-68页 |
| ·紫外光活性提高及光腐蚀抑制机制 | 第59-65页 |
| ·可见光活性产生机制 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第4章 C_3N_4杂化 Bi_2WO_6的光催化性能提高研究 | 第70-86页 |
| ·本章引论 | 第70页 |
| ·实验部分 | 第70-72页 |
| ·试剂与仪器 | 第70-71页 |
| ·Bi_2WO_6催化剂的制备 | 第71页 |
| ·C_3N_4/Bi_2WO_6杂化催化剂的制备 | 第71页 |
| ·Bi_2WO_6膜和 C_3N_4/Bi_2WO_6膜电极的制备 | 第71页 |
| ·光催化评价及光电化学测试 | 第71-72页 |
| ·C_3N_4/Bi_2WO_6光催化活性及光电流的提高 | 第72-74页 |
| ·热处理温度对 C_3N_4/Bi_2WO_6杂化催化剂活性的影响 | 第74-75页 |
| ·C_3N_4/Bi_2WO_6杂化光催化剂的表征 | 第75-81页 |
| ·C_3N_4/Bi_2WO_6杂化光催化剂形貌及晶体结构表征 | 第75-77页 |
| ·杂化作用 | 第77-78页 |
| ·热重和差热分析 | 第78-80页 |
| ·光学性质 | 第80-81页 |
| ·杂化催化剂的稳定性 | 第81页 |
| ·光催化活性提高机理 | 第81-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第5章 类石墨烯杂化 TiO_2的光催化性能提高研究 | 第86-105页 |
| ·本章引论 | 第86-87页 |
| ·仪器与试剂 | 第87-88页 |
| ·试剂与仪器 | 第87页 |
| ·类石墨烯/TiO_2（GT）杂化催化剂的制备 | 第87-88页 |
| ·TiO_2膜和 GT 膜电极的制备 | 第88页 |
| ·光催化评价及光电化学测试 | 第88页 |
| ·GT 样品的光催化活性及光电流的提高 | 第88-92页 |
| ·GT 杂化催化剂的结构及形貌表征 | 第92-98页 |
| ·GT 杂化催化剂的形貌表征及热重-差热分析 | 第92-94页 |
| ·杂化作用 | 第94-95页 |
| ·晶体结构表征 | 第95-96页 |
| ·光学性质 | 第96-97页 |
| ·XPS 分析 | 第97-98页 |
| ·GT 杂化催化剂的稳定性 | 第98-99页 |
| ·光催化活性提高的机制 | 第99-104页 |
| ·本章小结 | 第104-105页 |
| 第6章 PANI 杂化 TiO_2的光电催化性能研究 | 第105-123页 |
| ·本章引论 | 第105页 |
| ·实验部分 | 第105-107页 |
| ·试剂与仪器 | 第105-106页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第106页 |
| ·PANI/TiO_2薄膜的制备 | 第106页 |
| ·光电催化评价 | 第106-107页 |
| ·TiO_2薄膜的表征 | 第107-108页 |
| ·PANI/ TiO_2杂化光催化剂的表征 | 第108-113页 |
| ·杂化作用 | 第108-112页 |
| ·PANI 膜厚和光学性质表征 | 第112-113页 |
| ·光催化及光电催化活性的提高 | 第113-114页 |
| ·光催化与电氧化的协同效应 | 第114-119页 |
| ·PANI 浓度对光电催化活性的影响 | 第114-118页 |
| ·偏压对光电催化活性的影响 | 第118-119页 |
| ·PANI/TiO_2复合膜的稳定性 | 第119-121页 |
| ·光电催化活性提高机理 | 第121-122页 |
| ·本章小结 | 第122-123页 |
| 第7章 结论 | 第123-125页 |
| 参考文献 | 第125-140页 |
| 致谢 | 第140-142页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第142-143页 |
