10.6μm TEA CO2激光光学薄膜损伤阈值研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 1 概论 | 第8-15页 |
| ·薄膜研究的发展动态与意义 | 第8-12页 |
| ·提高薄膜阈值的方法 | 第12-13页 |
| ·本论文的研究内容和意义 | 第13-15页 |
| 2 激光薄膜损伤机理与特性 | 第15-26页 |
| ·激光薄膜损伤的基本过程 | 第15-21页 |
| ·激光薄膜损伤的特性 | 第21-24页 |
| ·本章小结 | 第24-26页 |
| 3 薄膜损伤阈值的测量 | 第26-39页 |
| ·损伤阈值的测量 | 第26-28页 |
| ·1-ON-1 损伤测量方式 | 第28-31页 |
| ·S-ON-1 损伤测量方式 | 第31-32页 |
| ·N-ON-1、R-ON-1 损伤测试方式 | 第32-33页 |
| ·焦点前后薄膜损伤测试差异 | 第33-37页 |
| ·其他测量方法 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 4 光学薄膜制备与损伤阈值提高技术研究 | 第39-68页 |
| ·TEA CO_2激光器抗损伤薄膜的设计与制备 | 第39-42页 |
| ·光学薄膜损伤阈值的提高方法 | 第42-47页 |
| ·大光斑激光预处理对提高薄膜阈值水平的研究 | 第47-60页 |
| ·元件基底厚度对损伤阈值的影响 | 第60-63页 |
| ·离子后处理对损伤阈值的影响 | 第63-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 5 总结和展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
