| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| ·概述 | 第11-18页 |
| ·碳的价键结构 | 第11-12页 |
| ·碳的相图 | 第12-14页 |
| ·碳的同素异形体 | 第14-18页 |
| ·与本课题相关的研究现状 | 第18-20页 |
| ·本课题的研究内容、方法和意义 | 第20-22页 |
| ·研究方法 | 第20-21页 |
| ·研究内容和意义 | 第21-22页 |
| 第二章 正电子湮没谱学研究方法 | 第22-38页 |
| ·正电子谱学的发展概况 | 第22-23页 |
| ·正电子湮没谱学的基本理论 | 第23-27页 |
| ·正电子湮没过程 | 第23页 |
| ·正电子湮没率与电子密度 | 第23-24页 |
| ·正电子捕获模型 | 第24-25页 |
| ·正电子湮没Doppler展宽谱和角关联谱与电子动量 | 第25-27页 |
| ·正电子湮没实验方法 | 第27-38页 |
| ·正电子寿命测量 | 第27-31页 |
| ·多普勒展宽谱测量 | 第31-33页 |
| ·慢正电子谱测量 | 第33-38页 |
| 第三章 石墨和纳米碳中的微观缺陷及电子特性研究 | 第38-51页 |
| ·前言 | 第38-40页 |
| ·实验方法 | 第40-42页 |
| ·样品制备 | 第40页 |
| ·正电子试验 | 第40-42页 |
| ·结果和结论 | 第42-50页 |
| ·石墨和纳米碳中电子动量分布特征 | 第42-45页 |
| ·石墨和纳米碳中自由电子密度随温度的变化规律 | 第45-48页 |
| ·石墨和纳米碳表面微观结构 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第四章 掺杂和未掺杂金刚石薄膜微观结构的慢正电子束研究 | 第51-66页 |
| ·前言 | 第51-53页 |
| ·金刚石薄膜的性能及应用 | 第51页 |
| ·金刚石薄膜的CVD沉积原理及方法 | 第51-53页 |
| ·当前金刚石薄膜产业化中亟需解决的难题 | 第53页 |
| ·实验方法 | 第53-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-65页 |
| ·掺杂和未掺杂金刚石薄膜比较 | 第55-58页 |
| ·未掺杂金刚石薄膜退火样品 | 第58-60页 |
| ·高掺硼金刚石薄膜退火样品 | 第60-61页 |
| ·低掺硼金刚石薄膜退火样品 | 第61-63页 |
| ·掺硫金刚石薄膜退火样品 | 第63-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 第五章 C_(60)薄膜的慢正电子研究 | 第66-77页 |
| ·前言 | 第66-68页 |
| ·C_(60)分子的结构与性能 | 第66-67页 |
| ·C_(60)薄膜的性能及应用 | 第67页 |
| ·C_(60)薄膜的制备 | 第67-68页 |
| ·C_(60)薄膜的研究热点 | 第68页 |
| ·实验方法 | 第68-70页 |
| ·结果与讨论 | 第70-76页 |
| ·不同的沉积离子能量对C_(60)薄膜微观结构的影响 | 第70-75页 |
| ·退火对C_(60)薄膜微观结构的影响 | 第75-76页 |
| ·小结 | 第76-77页 |
| 第六章 总结 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 攻读硕士学位期间完成论文情况 | 第86页 |
