| 提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-36页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·ZnO薄膜的结构特性 | 第9-10页 |
| ·ZnO薄膜的光电特性 | 第10-12页 |
| ·ZnO薄膜的发光机理 | 第12-14页 |
| ·ZnO薄膜的研究现状 | 第14-26页 |
| ·ZnO 的掺杂特性和PN 结的制作 | 第15-23页 |
| ·ZnO薄膜的应用前景 | 第23-26页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第26-34页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第26-27页 |
| ·金属有机物汽相外延(MOCVD) | 第27页 |
| ·锌膜氧化法 | 第27-29页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第29-34页 |
| ·PLD（Pulsed Laser Deposition）技术发展历史 | 第29-30页 |
| ·PLD技术的基本原理及物理过程 | 第30-33页 |
| ·PLD技术的特点 | 第33-34页 |
| ·本文研究背景及内容 | 第34-36页 |
| ·选题意义 | 第34-35页 |
| ·研究内容 | 第35-36页 |
| 第二章 实验方法及工艺研究 | 第36-43页 |
| ·实验材料 | 第36-37页 |
| ·实验设备 | 第37-38页 |
| ·实验方案 | 第38-39页 |
| ·采用锌铝合金靶，以石英玻璃为基体制备ZnO:Al薄膜 | 第38页 |
| ·以N_2O为活性气体制备N掺杂ZnO薄膜 | 第38-39页 |
| ·在有机基体上沉积ZnO:Al薄膜 | 第39页 |
| ·微观组织、结构特性和发光性能的表征 | 第39-40页 |
| ·工艺性研究 | 第40-43页 |
| 第三章 不同铝含量靶材沉积ZnO:Al薄膜 | 第43-66页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·Al含量对ZnO:Al薄膜结构（XRD）的影响 | 第44-51页 |
| ·Al含量对ZnO:Al薄膜发光性能的影响 | 第51-54页 |
| ·Al含量对ZnO:Al薄膜电学性能的影响 | 第54-59页 |
| ·基体温度对ZnO:Al(2.0wt.%Al)薄膜结构特性和透光率的影响 | 第59-62页 |
| ·不同Al含量对ZnO:Al薄膜透光性能的影响 | 第62页 |
| ·基体温度对ZnO:Al(2.0wt.%Al)薄膜发光性能的影响 | 第62-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第四章 室温下沉积ZnO:Al薄膜的组织及性能 | 第66-82页 |
| ·引言 | 第66页 |
| ·室温下PLD激光能量密度对ZnO:Al薄膜结构的影响 | 第66-69页 |
| ·室温下PLD激光能量密度对ZnO:Al薄膜可见光透光率的影响 | 第69-70页 |
| ·室温下PLD激光能量密度对ZnO:Al薄膜PL谱的影响 | 第70-75页 |
| ·在有机基体（polycarbonate substrate）上沉积ZnO:Al薄膜 | 第75-80页 |
| ·氧气压力对ZnO:Al薄膜结构特性的影响 | 第76-77页 |
| ·基体温度对ZnO:Al薄膜结构特性的影响 | 第77-79页 |
| ·有机基体上沉积ZnO:Al薄膜的发光性能 | 第79-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第五章 ZnO薄膜的P型掺杂及性能检测 | 第82-93页 |
| ·引言 | 第82-85页 |
| ·N及Al,N共掺杂ZnO薄膜的结晶性能 | 第85-89页 |
| ·N及Al,N共掺杂ZnO薄膜的发光性能 | 第89-90页 |
| ·N及Al,N共掺杂ZnO薄膜的电学性能 | 第90-91页 |
| ·N及Al,N共掺杂ZnO薄膜的XPS分析 | 第91-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 第六章 结论 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-107页 |
| 攻博期间发表的学术论文 | 第107-108页 |
| 摘要 | 第108-111页 |
| Abstract | 第111-116页 |
| 致谢 | 第116页 |
