磁控溅射法制备掺铈TiO2薄膜及其光催化性能的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·二氧化钛的晶体结构 | 第10-12页 |
| ·二氧化钛薄膜的应用 | 第12-15页 |
| ·氧敏传感器 | 第12页 |
| ·太阳能电池 | 第12-13页 |
| ·防雾及自清洁玻璃 | 第13页 |
| ·抗菌材料 | 第13-14页 |
| ·污水处理 | 第14-15页 |
| ·二氧化铈的晶体结构 | 第15-17页 |
| ·二氧化铈的应用 | 第17-18页 |
| ·抛光粉 | 第17页 |
| ·紫外屏蔽材料 | 第17页 |
| ·催化材料 | 第17-18页 |
| ·闪烁体 | 第18页 |
| ·掺铈氧化钛薄膜研究进展 | 第18-19页 |
| ·论文的研究内容 | 第19-20页 |
| 第一章参考文献 | 第20-24页 |
| 第二章 薄膜的制备及表征 | 第24-31页 |
| ·薄膜制备方法介绍 | 第24-27页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第24页 |
| ·分子束外延 | 第24-25页 |
| ·化学气相沉积 | 第25页 |
| ·磁控溅射法 | 第25-27页 |
| ·磁控溅射镀膜设备简介 | 第27-28页 |
| ·薄膜的表征 | 第28-30页 |
| ·结构和组分分析 | 第28-29页 |
| ·薄膜光学性能的分析 | 第29-30页 |
| 第二章参考文献 | 第30-31页 |
| 第三章 掺铈TiO_2薄膜的制备及光学性能的研究 | 第31-51页 |
| ·掺铈TiO_2薄膜的制备 | 第31-33页 |
| ·掺杂靶材的制备 | 第31-33页 |
| ·磁控溅射制备掺Ce氧化钛薄膜 | 第33页 |
| ·掺铈TiO_2薄膜的表征 | 第33-44页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第33-35页 |
| ·薄膜的透射谱及其禁带宽度 | 第35-39页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第39-42页 |
| ·薄膜的荧光光谱分析 | 第42-44页 |
| ·掺铈TiO_2薄膜光催化性能的研究 | 第44-48页 |
| ·薄膜的光催化性能测试 | 第44-46页 |
| ·掺Ce氧化钛薄膜的光催化机制的探讨 | 第46-48页 |
| ·本章总结 | 第48-49页 |
| 第三章参考文献 | 第49-51页 |
| 第四章 薄膜制备参数对其光学性能及光催化的影响 | 第51-58页 |
| ·膜厚对薄膜光学性能的影响 | 第51-52页 |
| ·膜厚对薄膜光催化性能的影响 | 第52-53页 |
| ·退火对薄膜光催化性能的影响 | 第53-54页 |
| ·氮、铈共掺TiO_2薄膜光催化性能的探究 | 第54-56页 |
| ·本章总结 | 第56页 |
| 第四章参考文献 | 第56-58页 |
| 第五章 结论及展望 | 第58-60页 |
| 主要结论 | 第58-59页 |
| 展望 | 第59-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
