MOEMS阵列光开关的制作与性能测试
| 内容提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-18页 |
| ·引言 | 第7-9页 |
| ·微光机电系统(MOEMS)的相关制造工艺 | 第9-10页 |
| ·微光机电系统的应用及产业化前景 | 第10页 |
| ·光开关的应用及研制的必要性 | 第10-11页 |
| ·光开关的类型 | 第11-17页 |
| ·热光效应光开关 | 第12页 |
| ·电光效应光开关 | 第12-13页 |
| ·声光开关 | 第13-14页 |
| ·液晶光开关 | 第14页 |
| ·磁光开关 | 第14-15页 |
| ·全息光开关 | 第15页 |
| ·机械式光开关 | 第15-16页 |
| ·微机械式光开关（MOEMS） | 第16-17页 |
| ·本课题的主要研究内容及其研究意义 | 第17-18页 |
| 第二章 8×8MOEMS 阵列光开关的结构设计 | 第18-34页 |
| ·光开关的结构和工作原理 | 第18-20页 |
| ·驱动结构的动力学分析 | 第20-28页 |
| ·平面下电极的扭臂驱动结构的分析 | 第21-24页 |
| ·倾斜下电极的扭臂驱动结构的分析 | 第24-28页 |
| ·驱动电压的研究 | 第28-31页 |
| ·开关时间的计算 | 第31-33页 |
| ·总结 | 第33-34页 |
| 第三章 8×8MOEMS 阵列光开关的制作 | 第34-45页 |
| ·MOEMS 光开关的基本制作工艺 | 第35-41页 |
| ·掩膜材料的制作 | 第35-36页 |
| ·光刻工艺 | 第36-38页 |
| ·反应离子刻蚀（RIE）工艺 | 第38-40页 |
| ·湿法刻蚀工艺 | 第40-41页 |
| ·磁控溅射工艺 | 第41页 |
| ·8×8MOEMS 阵列光开关的制作工艺流程 | 第41-43页 |
| ·下电极的制作 | 第43-44页 |
| ·器件封装 | 第44-45页 |
| 第四章 MOEMS 光开关的性能测试 | 第45-50页 |
| ·MOEMS 光开关的性能指标 | 第45-46页 |
| ·驱动电压的测试 | 第46-47页 |
| ·开关时间的测试 | 第47-49页 |
| ·光学性能的测试 | 第49-50页 |
| 第五章 全文总结 | 第50-52页 |
| ·本文的主要工作和取得的主要成果 | 第50-51页 |
| ·本文论述课题在实施过程的主要创新点 | 第51页 |
| ·结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 摘要 | 第56-58页 |
| ABSTRACT | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
