| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-15页 |
| ·选题意义 | 第8-9页 |
| ·碳氮化硅(SiCN)薄膜的研究概况 | 第9-13页 |
| ·SiCN理论模型 | 第9-11页 |
| ·SiCN薄膜的制备方法 | 第11-13页 |
| ·双放电腔微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积及其特点 | 第13-14页 |
| ·本论文研究内容 | 第14-15页 |
| 2 SiCN薄膜的制备和表征 | 第15-21页 |
| ·双放电腔微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射系统 | 第15-16页 |
| ·SiCN薄膜沉积的实验过程 | 第16-18页 |
| ·基片预处理方法 | 第16页 |
| ·SiCN薄膜沉积过程 | 第16-18页 |
| ·薄膜结构表征方法 | 第18-19页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第18页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第18-19页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第19页 |
| ·薄膜性能表征方法 | 第19-20页 |
| ·薄膜厚度检测 | 第19-20页 |
| ·薄膜硬度检测 | 第20页 |
| ·光学性能分析 | 第20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 3 碳含量对SiCN薄膜结构和性能的影响 | 第21-32页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第21-23页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第23-26页 |
| ·薄膜生长速率 | 第26-27页 |
| ·薄膜硬度测试 | 第27-28页 |
| ·光学性能测试 | 第28-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 4 硅靶溅射功率对SiCN薄膜的结构和性能的影响 | 第32-38页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第32-34页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第34-36页 |
| ·薄膜生长速率 | 第36页 |
| ·光学性能测试 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 5 N_2／Ar流量比对SiCN薄膜的结构和性能的影响 | 第38-47页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第38-39页 |
| ·拉曼分析(Raman) | 第39-41页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第41-44页 |
| ·薄膜生长速率 | 第44页 |
| ·光学性能测试 | 第44-45页 |
| ·薄膜硬度测试 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第55页 |
