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微波功率SiGe HBT关键技术研究

摘要第1-10页
Abstract第10-14页
目录第14页
第一章 绪论第14-24页
   ·引言第14-20页
   ·微波功率SiGe/Si HBT制约因素第20-22页
   ·论文工作简介第22-24页
第二章 SiGeHBT材料物理参数模型第24-35页
   ·应变SiGe与临界厚度第24-26页
   ·应变SiGe物理参数第26-27页
   ·应变SiGe迁移率模型第27-29页
   ·SiGe禁带宽度模型第29-30页
   ·重掺杂SiGe禁带变窄模型第30-31页
   ·SiGe有效态密度与本征载流子密度第31-32页
   ·基区Ge分布第32-33页
   ·基区掺杂分布第33-34页
   ·小结第34-35页
第三章 SiGe HBT直流参数模型第35-56页
   ·SiGe器件基本结构第35-37页
   ·SiGe HBT电流增益模型第37-52页
   ·集电极电流密度模型第52页
   ·击穿电压与Kirk效应第52-55页
   ·小结第55-56页
第四章 SiGe HBT交流参数模型第56-89页
   ·特征频率第56页
   ·发射极延迟时间第56-64页
   ·基区渡越时间第64-71页
   ·基区Ge组分的优化第71-77页
   ·集电结耗尽层渡越时间模型第77-84页
   ·收集结延迟时间第84-86页
   ·功率增益第86-88页
   ·小结第88-89页
第五章 大信号SiGe HBT等效电路模型第89-111页
   ·SiGe HBT大信号等效电路模型第89-93页
   ·传输电流模型第93-100页
   ·SiGe HBT电容模型第100-102页
   ·等效电路中的其它模型第102-107页
   ·模拟分析第107-110页
   ·小结第110-111页
第六章 S波段功率SiGe HBT芯片优化设计第111-118页
   ·器件图形结构设计第111-112页
   ·基区结构设计第112-114页
   ·发射区结构设计第114-115页
   ·集电区参数设计第115页
   ·镇流电阻第115-116页
   ·器件纵横向结构参数第116-117页
   ·小结第117-118页
第七章 S波段功率SiGe HBT工艺设计与实现第118-126页
   ·工艺步骤第118-120页
   ·离子注入第120-124页
   ·金属化第124-125页
   ·电镀第125页
   ·小结第125-126页
第八章 S波段功率SiGe HBT内匹配与功率合成第126-144页
   ·微波功率管管芯阻抗估算第127-130页
   ·内匹配网络设计第130-133页
   ·内匹配网络中元件对晶体管性能影响第133-136页
   ·内匹配网络功率均分第136-139页
   ·功率合成第139-140页
   ·S波段功率SiGe HBT内匹配与功率合成第140-143页
   ·小结第143-144页
第九章 结论第144-148页
致谢第148-149页
参考文献第149-161页
在读期间的科研成果第161-164页

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