摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第一章 酞菁概述 | 第9-21页 |
·酞菁化合物的基本性质 | 第9-10页 |
·酞菁的光敏化 | 第10-15页 |
·酞菁均相光敏化的机理 | 第10-11页 |
·酞菁产生~1O_2效率及影响因素 | 第11-14页 |
·酞菁光敏化的应用 | 第14-15页 |
·酞菁的异相光催化 | 第15-17页 |
·酞菁与一般的载体负载 | 第15-16页 |
·酞菁与半导体结合 | 第16-17页 |
·选题目的 | 第17-19页 |
参考文献 | 第19-21页 |
第二章 含硫化合物光氧化研究进展 | 第21-34页 |
·概述 | 第21页 |
·无机硫光氧化进展 | 第21-24页 |
·有机硫光催化进展 | 第24-28页 |
·半导体光催化氧化有机硫 | 第24-26页 |
·有机硫的可见光光致氧化 | 第26-28页 |
·选题目的 | 第28-30页 |
参考文献 | 第30-34页 |
第三章 紫外光和可见光下磺化金属酞菁/TiO_2复合体系光稳定性研究 | 第34-45页 |
·概述 | 第34-35页 |
·实验部分 | 第35-36页 |
·实验结果和讨论 | 第36-41页 |
·MPc在TiO_2表面的吸附 | 第36-37页 |
·酞菁的稳定性 | 第37-39页 |
·TiO_2类型对酞菁降解速率的影响 | 第39-40页 |
·4-CP对酞菁降解速率的影响 | 第40-41页 |
·反应机理 | 第41-43页 |
·小结 | 第43-44页 |
参考文献 | 第44-45页 |
第四章 硫离子在阴离子树脂负载酞菁铝上的吸附和光敏氧化 | 第45-56页 |
·概述 | 第45-46页 |
·实验部分 | 第46-47页 |
·催化剂的制备 | 第46页 |
·实验条件和分析方法 | 第46-47页 |
·结果和讨论 | 第47-54页 |
·硫离子在催化剂表面的吸附 | 第47-48页 |
·光催化剂的紫外-可见漫反射光谱 | 第48-49页 |
·硫离子的氧化 | 第49-50页 |
·负载量和底物浓度的影响 | 第50-52页 |
·反应产物的检测 | 第52-53页 |
·循环实验 | 第53-54页 |
·小结 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-56页 |
第五章 负载金属酞菁对有机硫的光降解研究 | 第56-70页 |
·概述 | 第56-57页 |
·实验部分 | 第57-58页 |
·实验试剂 | 第57页 |
·催化剂合成 | 第57-58页 |
·实验条件 | 第58页 |
·实验结果和讨论 | 第58-64页 |
·催化剂对反应速率的影响 | 第58-61页 |
·溶剂的极性对反应速率的影响 | 第61-62页 |
·溶剂的pH对反应速率的影响 | 第62-63页 |
·催化剂的循环实验 | 第63-64页 |
·反应的产物及机理的探讨 | 第64-67页 |
·小结 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-70页 |
第六章 总结和展望 | 第70-72页 |
·总结 | 第70-71页 |
·存在的问题与展望 | 第71-72页 |
硕士期间发表的论文 | 第72-73页 |
致谢 | 第73-74页 |