| 第一章 绪论 | 第1-10页 |
| 第二章 实验设备及检测仪器 | 第10-12页 |
| ·实验设备 | 第10-11页 |
| ·检测仪器 | 第11-12页 |
| 第三章 TIO_2薄膜的制备 | 第12-23页 |
| ·射频磁控溅射法概述 | 第12-13页 |
| ·溅射靶的制备 | 第13-16页 |
| ·基片的清洗 | 第16-18页 |
| ·纳米TIO_2薄膜的制备 | 第18-20页 |
| ·TIO_2薄膜的退火处理 | 第20-21页 |
| ·真空室的操作 | 第21-23页 |
| 第四章 讨论和分析 | 第23-51页 |
| ·溅射参数对制备TIO_2薄膜的影响 | 第23-29页 |
| ·靶与基片的距离对制备TiO_2薄膜的影响 | 第23页 |
| ·靶的蚀刻对TiO_2薄膜制备的影响 | 第23-25页 |
| ·不成功案例分析 | 第25-27页 |
| ·工作压强对沉积速率和折射率的影响 | 第27-29页 |
| ·TIO_2薄膜晶体结构 | 第29-37页 |
| ·TiO_2的三种晶相简介 | 第29-30页 |
| ·靶材、退火温度以及基片材料对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第30-34页 |
| ·TiO_2薄膜的晶粒大小 | 第34页 |
| ·TiO_2薄膜的相变 | 第34-37页 |
| ·TIO_2薄膜的表面形貌 | 第37-41页 |
| ·TiO_2薄膜的数码相片 | 第37-38页 |
| ·TiO_2薄膜的显微镜相片 | 第38-40页 |
| ·TiO_2薄膜的原子力显微图 | 第40-41页 |
| ·TIO_2薄膜的光谱特征 | 第41-45页 |
| ·紫外-可见光吸收光谱(UV-vis) | 第41-42页 |
| ·拉曼光谱(Raman spectrum) | 第42-45页 |
| ·TIO_2薄膜的光催化性能和亲水性能 | 第45-51页 |
| ·光催化性能 | 第45-47页 |
| ·亲水性能 | 第47-51页 |
| 第五章 小结 | 第51-53页 |
| ·结论 | 第51-52页 |
| ·将来有待进行的工作 | 第52-53页 |
| 研究生期间发表的文章 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |