柔性衬底薄膜光伏电池相关材料制备及性能
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
1 绪论 | 第11-26页 |
·课题研究背景和意义 | 第11-12页 |
·硅基薄膜太阳能电池的种类及研究现状 | 第12-17页 |
·非晶硅薄膜 | 第13-15页 |
·多晶硅薄膜 | 第15-16页 |
·微晶硅薄膜 | 第16-17页 |
·柔性薄膜太阳能电池的特点及研究现状 | 第17-19页 |
·柔性微晶硅薄膜电池存在的问题及解决方案 | 第19-24页 |
·微晶硅薄膜均匀性研究 | 第19-20页 |
·陷光结构——绒面背电极 | 第20-22页 |
·阻挡层的研究现状及存在问题 | 第22-23页 |
·透明氧化锌铝薄膜的研究 | 第23-24页 |
·本文的研究目的和主要内容 | 第24-26页 |
2 实验设备与实验方法 | 第26-40页 |
·衬底的选择和处理 | 第26-27页 |
·实验设备 | 第27-32页 |
·射频磁控溅射技术 | 第27-29页 |
·微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积系统 | 第29-32页 |
·薄膜的表征与分析方法 | 第32-40页 |
·薄膜厚度、表面形貌及成分的测定 | 第32-33页 |
·薄膜结构分析 | 第33-36页 |
·薄膜电学和光学性能测试 | 第36-40页 |
3 柔性衬底上绒面铝电极的制备及生长机理 | 第40-53页 |
·引言 | 第40页 |
·射频磁控溅射制备绒面铝电极研究 | 第40-48页 |
·薄膜制备 | 第40-41页 |
·沉积参数对薄膜沉积速率和形貌的影响 | 第41-44页 |
·沉积参数对薄膜电阻率的影响 | 第44-45页 |
·沉积参数对薄膜反射率的影响 | 第45-48页 |
·生长机理分析 | 第48-51页 |
·衬底对Al薄膜形核的影响 | 第48-50页 |
·沉积条件对Al薄膜生长的影响 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-53页 |
4 柔性硅基太阳能电池扩散阻挡层研究 | 第53-67页 |
·引言 | 第53页 |
·阻挡层材料的筛选 | 第53-57页 |
·材料制备 | 第53-54页 |
·AlN、TiN、Ni及其合金薄膜的阻挡效果测试 | 第54-56页 |
·筛选结果小结 | 第56-57页 |
·Ni系阻挡层的结构、性能分析 | 第57-64页 |
·材料制备 | 第57页 |
·成分和结构分析 | 第57-58页 |
·阻挡层效果对比 | 第58-61页 |
·阻挡机理分析 | 第61-62页 |
·电性能分析 | 第62-64页 |
·分析和讨论 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-67页 |
5 微晶硅薄膜的制备及生长模型 | 第67-80页 |
·引言 | 第67页 |
·ECR-PECVD 技术制备微晶硅薄膜 | 第67-72页 |
·微晶硅薄膜的制备 | 第67-68页 |
·薄膜的结构 | 第68-70页 |
·氢等离子体处理对微晶硅薄膜生长的影响 | 第70-72页 |
·分析与讨论 | 第72页 |
·两步生长法制备微晶硅薄膜 | 第72-79页 |
·实验过程 | 第72-73页 |
·籽晶层的研究 | 第73-75页 |
·两步法与常规生长的微晶硅薄膜对比 | 第75-77页 |
·氢等离子体处理的机理及两步生长法模型 | 第77-79页 |
·本章小结 | 第79-80页 |
6 透明氧化物薄膜的制备及结构研究 | 第80-101页 |
·引言 | 第80页 |
·ZnO:Al 薄膜的制备 | 第80-81页 |
·沉积参数对ZnO:Al薄膜结构和性能的影响 | 第81-93页 |
·沉积参数对薄膜结构和应力的影响 | 第81-86页 |
·沉积参数对薄膜光学性能的影响 | 第86-87页 |
·沉积参数对薄膜电学性能的影响 | 第87-89页 |
·薄膜结构对其性能影响规律的探讨 | 第89-93页 |
·薄膜结构变化的原因分析及理论计算 | 第93-100页 |
·结构变化的原因分析 | 第93-97页 |
·Al掺杂位置对ZnO 结构影响的理论计算 | 第97-100页 |
·本章小结 | 第100-101页 |
结论 | 第101-103页 |
创新点摘要 | 第103-104页 |
参考文献 | 第104-113页 |
攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第113-114页 |
致谢 | 第114-115页 |
作者简介 | 第115-116页 |