多孔硅的发光机制与光学三阶非线性研究
| 第一章 多孔硅综述 | 第1-30页 |
| ·多孔硅的定义 | 第11页 |
| ·多孔硅的研究意义 | 第11-13页 |
| ·多孔硅的发光性能 | 第13-15页 |
| ·硅的能带结构 | 第13-14页 |
| ·硅体材料的发光性质 | 第14-15页 |
| ·多孔硅的光致发光和电致发光 | 第15页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第15-17页 |
| ·阳极氧化腐蚀 | 第15-16页 |
| ·锈斑腐蚀(化学腐蚀) | 第16页 |
| ·火花腐蚀 | 第16-17页 |
| ·水热腐蚀 | 第17页 |
| ·多孔硅的发光机制 | 第17-22页 |
| ·量子限域模型 | 第17-19页 |
| ·氢化非晶硅模型 | 第19-20页 |
| ·硅-氢键或多硅烷发光 | 第20页 |
| ·缺陷态发光 | 第20-21页 |
| ·硅氧烯发光 | 第21页 |
| ·表面态模型 | 第21-22页 |
| ·量子限域-发光中心模型 | 第22页 |
| ·小结 | 第22页 |
| ·多孔硅的研究方法 | 第22-24页 |
| ·显微镜法 | 第22-23页 |
| ·X射线衍射技术 | 第23页 |
| ·光致发光谱 | 第23-24页 |
| ·拉曼光谱法 | 第24页 |
| ·其它研究方法 | 第24页 |
| ·多孔硅的应用 | 第24-25页 |
| ·论文选题依据 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 第二章 三阶非线性简介 | 第30-43页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·非线性光学概述 | 第30-34页 |
| ·非线性光学简介 | 第30-31页 |
| ·非线性光学机制的介绍 | 第31-32页 |
| ·非线性吸收 | 第32-34页 |
| ·饱和吸收 | 第32-33页 |
| ·反饱和吸收 | 第33页 |
| ·双光子吸收 | 第33-34页 |
| ·自由载流子吸收 | 第34页 |
| ·单光束Z-扫描方法的基本理论 | 第34-40页 |
| ·Z-扫描方法的一般描述 | 第34-35页 |
| ·Z-扫描方法的测量原理 | 第35-37页 |
| ·非线性折射率和非线性吸收的计算 | 第37-40页 |
| 参考文献 | 第40-43页 |
| 第三章 均匀稳定多孔硅的制备 | 第43-52页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·实验部分 | 第43-50页 |
| ·多孔硅的制备以及测量 | 第43-45页 |
| ·实验结果 | 第45-49页 |
| ·讨论和分析 | 第49-50页 |
| ·本章结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第四章 多孔硅的光致发光机制 | 第52-60页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·实验部分 | 第53-57页 |
| ·多孔硅的制备及测量 | 第53页 |
| ·实验结果 | 第53-56页 |
| ·分析和讨论 | 第56-57页 |
| ·本章总结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第五章 多孔硅的三阶非线性光学特性 | 第60-78页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·样品制备及Z-扫描装置 | 第61-62页 |
| ·多孔硅在1064 nm激光波长下非线性光学特性 | 第62-66页 |
| ·多孔硅在532nm激光波长下非线性光学特性 | 第66-70页 |
| ·分析和讨论 | 第70-74页 |
| ·本章总结 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-78页 |
| 攻读硕士学位期间完成的论文 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
