摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-15页 |
第一章 绪论 | 第15-29页 |
·前言 | 第15-16页 |
·杂原子介孔分子筛的研究进展 | 第16-25页 |
·杂原子介孔分子筛的合成方法 | 第19-20页 |
·杂原子介孔分子筛的合成机理 | 第20-24页 |
·杂原子介孔分子筛的研究重点和难点 | 第24-25页 |
·高分散金属分子筛载体催化剂的研究进展 | 第25-27页 |
·高分散金属分子筛载体催化剂的合成方法 | 第26-27页 |
·高分散金属分子筛载体催化剂的研究重点和难点 | 第27页 |
·论文的意义及研究内容 | 第27-29页 |
·论文的目的和意义 | 第27-28页 |
·论文的研究内容 | 第28-29页 |
第二章 实验部分 | 第29-36页 |
·实验所需仪器和试剂 | 第29-30页 |
·实验所需仪器 | 第29页 |
·实验所需的化学试剂 | 第29-30页 |
·样品的制备 | 第30-31页 |
·高金属含量骨架型杂原子介孔分子筛 Ni-MCM-41 的制备 | 第30页 |
·纯 Si 介孔分子筛 Si-MCM-41 的制备 | 第30-31页 |
·负载型杂原子介孔分子筛 Ni/MCM-41 的制备 | 第31页 |
·高分散金属型分子筛 Ni·MCM-41 的制备 | 第31页 |
·样品的表征 | 第31-35页 |
·X 射线衍射分析测试(XRD) | 第31-33页 |
·N_2等温物理吸附-脱附表征(N2-sorption) | 第33页 |
·傅立叶红外变换光谱表征(FT-IR) | 第33页 |
·能量色散 X 射线光谱分析(Energy-dispersive X-ray spectroscopy,EDS) | 第33-34页 |
·高分辨率透射电镜(HRTEM) | 第34页 |
·X 射线荧光光谱分析(XRF) | 第34页 |
·X 射线光电子能谱分析(XPS) | 第34-35页 |
·氢气程序升温还原分析(H2-TPR) | 第35页 |
·催化剂的活性评价 | 第35-36页 |
第三章 高金属含量骨架杂原子介孔分子筛 Ni-MCM-41 的的制制备备、表征和催化性能研究 | 第36-52页 |
·高金属含量杂原子介孔分子筛样品的合成 | 第37页 |
·高金属含量骨架杂原子介孔分子筛 Ni-MCM-41 制备条件考察 | 第37-40页 |
·晶化温度对分子筛结构的影响 | 第37-38页 |
·晶化时间对分子筛结构的影响 | 第38-39页 |
·煅烧对分子筛结构的影响 | 第39-40页 |
·高金属含量骨架杂原子介孔分子筛 Ni-MCM-41 表征 | 第40-48页 |
·骨架金属杂原子介孔分子筛 Ni-MCM-41 样品的 XRD 分析 | 第40-42页 |
·骨架金属杂原子介孔分子筛 Ni-MCM-41 样品中的 Ni 含量的分析 | 第42页 |
·高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第42-44页 |
·氮气等温物理吸附-脱附分析(N_2-absorption) | 第44-45页 |
·氢气程序升温还原分析(H_2-TPR) | 第45-46页 |
·傅立叶变换红外光谱分析(FT-IR) | 第46-47页 |
·X 射线光电子能谱分析(XPS) | 第47-48页 |
·高金属含量骨架杂原子介孔分子筛 Ni-MCM-41 的催化性能研究 | 第48-50页 |
·高金属含量骨架杂原子介孔分子筛 Ni-MCM-41 的机理探讨 | 第50页 |
·本章小结 | 第50-52页 |
第四章 高分散金属型介孔分子筛 Ni·MCM-41 的的制备及结构分析 | 第52-61页 |
·高分散金属型介孔分子筛 Ni·MCM-41 的制备方法 | 第52页 |
·高分散金属型介孔分子筛 Ni·MCM-41 制备条件考察 | 第52-56页 |
·还原温度的选择 | 第52-54页 |
·还原时间的选择 | 第54-56页 |
·高分散金属型介孔分子筛 Ni·MCM-41 的结构分析 | 第56-60页 |
·X 射线衍射分析(XRD) | 第56-57页 |
·高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第57-58页 |
·样品中金属 Ni 含量的分析 | 第58-59页 |
·氮气等温物理吸附-脱附分析(N2-absorption) | 第59页 |
·X 射线光电子能谱分析(XPS) | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
第五章 结论 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第69-70页 |
作者和导师简介 | 第70-71页 |
附件 | 第71-72页 |