| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-9页 |
| 1 前言 | 第9-22页 |
| 1．1 薄膜光学发展历程 | 第9-10页 |
| 1．2 软x射线多层膜研究的国内外现状及应用 | 第10-14页 |
| 1．2．1 引言 | 第10-11页 |
| 1．2．2 软x射线多层膜的国内外现状 | 第11-12页 |
| 1．2．3 软x射线多层镜的主要应用领域 | 第12-14页 |
| 1．3 ICF对多层膜技术的要求 | 第14页 |
| 1．4 本文的内容 | 第14-17页 |
| 1 参考文献 | 第17-22页 |
| 2 多层膜与软X射线多层膜的光学基础 | 第22-47页 |
| 2．1 麦克斯韦方程与平面电磁波 | 第22-25页 |
| 2．1．1 麦克斯韦方程的微分形式 | 第22-23页 |
| 2．1．2 平面电磁波的解与导纳方程 | 第23-25页 |
| 2．2 单一界面的反射率 | 第25-28页 |
| 2．2．1 描述单一界面的菲涅尔公式 | 第25-26页 |
| 2．2．2 光的偏振 | 第26-28页 |
| 2．3 单层薄膜的反射率 | 第28-31页 |
| 2．4 多层膜系的反射率 | 第31-33页 |
| 2．4．1 双层膜反射率的计算 | 第31-32页 |
| 2．4．2 多层膜反射率的计算 | 第32-33页 |
| 2．4．3 λ／4多层高反射膜系 | 第33页 |
| 2．5 递推法计算多层膜反射率 | 第33-37页 |
| 2．6 x射线多层膜理论 | 第37-41页 |
| 2．6．1 软x射线多层膜材料的散射因子 | 第38-39页 |
| 2．6．2 x光在界面的反射与软x射线多层膜 | 第39-40页 |
| 2．6．3 软x射线多层膜反射率的计算方法 | 第40-41页 |
| 2．7 光学薄膜作为增透膜和干涉滤光片、偏振器件的原理 | 第41-46页 |
| 2．7．1 增透膜 | 第41-42页 |
| 2．7．2 干涉滤光片 | 第42-43页 |
| 2．7．3 偏振片分光膜 | 第43-46页 |
| 2 参考文献 | 第46-47页 |
| 3 软x射线多层膜反射镜的设计 | 第47-66页 |
| 3．1 引言 | 第47-48页 |
| 3．2 软x射线多层膜反射镜膜系材料的选择方法 | 第48-49页 |
| 3．3 软x射线多层膜反射镜膜系材料的选择结果 | 第49-53页 |
| 3．3．1 波长为1．033nm的多层膜反射镜的材料选择 | 第49-50页 |
| 3．3．2 波长为1．77nm的多层膜反射镜的材料选择 | 第50-51页 |
| 3．3．3 波长为2．48nm的多层膜反射镜的材料选择 | 第51-52页 |
| 3．3．4 波长为4．77nm和7．48nm的多层膜反射镜的材料选择 | 第52-53页 |
| 3．4 模拟退火优化算法原理 | 第53-57页 |
| 3．4．1 模拟退火的基本思想 | 第54-56页 |
| 3．4．2 模拟退火算法的实现 | 第56-57页 |
| 3．5 模拟退火方法设计软x射线多层膜反射镜 | 第57-62页 |
| 3．5．1 模拟退火对多层膜反射镜的算法描述 | 第57-59页 |
| 3．5．2 设计结果 | 第59-62页 |
| 3．6 膜厚误差分析 | 第62-65页 |
| 3 参考文献 | 第65-66页 |
| 4 软x光多层膜粗糙界面的散射研究 | 第66-79页 |
| 4．1 引言 | 第66-67页 |
| 4．2 D．Stearns的散射理论 | 第67-71页 |
| 4．2．1 界面的数学描述 | 第67-69页 |
| 4．2．2 非理想界面镜面反射分量的计算公式 | 第69-71页 |
| 4．3 多层膜理论设计的一种修改方法 | 第71-72页 |
| 4．4 修改方法的设计结果 | 第72-78页 |
| 4．4．1 1．03nm软x射线多层膜反射镜基底的选择 | 第72-73页 |
| 4．4．2 1．77nm软x射线多层膜反射镜基底的选择 | 第73-74页 |
| 4．4．3 2．48nm软x射线多层膜反射镜基底的选择 | 第74-75页 |
| 4．4．4 4．77nm软x射线多层膜反射镜基底的选择 | 第75-76页 |
| 4．4．5 7．48nm软x射线多层膜反射镜基底的选择 | 第76-77页 |
| 4．4．6 设计结果 | 第77-78页 |
| 4 参考文献 | 第78-79页 |
| 5 软x射线多层镜制作与测量 | 第79-98页 |
| 5．1 多层膜的制备 | 第79-82页 |
| 5．1．1 真空镀膜设备的选择 | 第79-80页 |
| 5．1．2 磁控溅射的基本原理 | 第80-81页 |
| 5．1．3 膜厚控制方法 | 第81页 |
| 5．1．4 镀膜工艺参数的优化 | 第81-82页 |
| 5．2 超精加工的基底 | 第82-84页 |
| 5．3 小角x射线定标多层膜参数的基本理论 | 第84-86页 |
| 5．3．1 理想的Bragg方程 | 第84页 |
| 5．3．2 修正的Bragg方程 | 第84-86页 |
| 5．4 使用小角x射线衍射确定多层薄膜结构参数 | 第86-88页 |
| 5．5 同步辐射实验装置与软x射线站 | 第88-92页 |
| 5．5．1 同步辐射装置 | 第89页 |
| 5．5．2 同步辐射光源的特点 | 第89-90页 |
| 5．5．3 软x射线站 | 第90-92页 |
| 5．6 软x光多层膜反射镜的实测结果 | 第92-93页 |
| 5．7 多层膜界面粗糙度的一种估算方法 | 第93-96页 |
| 5 参考文献 | 第96-98页 |
| 6 多层镜分光软x光能谱仪 | 第98-105页 |
| 6．1 引言 | 第98-99页 |
| 6．2 能谱仪的结构与反射镜的安装调试 | 第99-100页 |
| 6．2．1 能谱仪的结构 | 第99页 |
| 6．2．2 通道校准 | 第99-100页 |
| 6．3 软x光能谱的测量 | 第100-104页 |
| 6 参考文献 | 第104-105页 |
| 7 总结与展望 | 第105-107页 |
| 创新点摘要 | 第107-108页 |
| 作者在读期间发表的与本文有关的论文 | 第108-109页 |
| 致谢 | 第109-110页 |
