脉冲激光烧蚀石墨靶制备超硬非晶碳膜
| 引言 | 第1-27页 |
| 第一章 脉冲激光烧蚀固体靶方法制备a-C | 第27-34页 |
| 第一节 实验装置及样品制作 | 第27-28页 |
| 第二节 脉冲激光烧蚀固体靶的机理 | 第28-31页 |
| 第三节 非晶碳膜的生长模式 | 第31-34页 |
| 第二章 离子辅助轰击对非晶碳膜生长的影响 | 第34-46页 |
| 第一节 实验 | 第34-35页 |
| 第二节 测试与分析 | 第35-46页 |
| 第三章 偏压对成膜影响的实验与机理研究 | 第46-57页 |
| 第一节 引言 | 第46-47页 |
| 第二节 实验 | 第47-53页 |
| 第三节 导电机理分析 | 第53-55页 |
| 第四节 问题与讨论 | 第55-56页 |
| 第五节 本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 激光聚焦对非晶碳膜生长的影响 | 第57-64页 |
| 第一节 制备非晶碳膜的Nagel标准及其突破 | 第57-58页 |
| 第二节 样品制备 | 第58-59页 |
| 第三节 SEM表面形貌相 | 第59-60页 |
| 第四节 Raman光谱分析 | 第60-63页 |
| 第五节 纳米硬度 | 第63-64页 |
| 第五章 非晶碳膜的光学性能 | 第64-71页 |
| 第一节 紫外可见光区的特性 | 第64-67页 |
| 第二节 硅基红外增透膜 | 第67-71页 |
| 总结与展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 符号说明 | 第77-78页 |
| 攻读硕士期间已公开发表的论 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
