多孔硅的形成及其镶嵌激光染料的光谱研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 第一章 多孔硅研究综述 | 第6-17页 |
| §1．1 形成机理 | 第7-9页 |
| §1．2 微观结构 | 第9-10页 |
| §1．3 光学性质 | 第10-11页 |
| §1．4 发光机制 | 第11-15页 |
| §1．5 应用前景 | 第15-17页 |
| 第二章 多孔硅的形成 | 第17-34页 |
| §2．1 制备过程 | 第17-21页 |
| 2．1．1 样品池 | 第17-18页 |
| 2．1．2 样品的制备 | 第18-20页 |
| 2．1．3 形成机制 | 第20-21页 |
| §2．2 影响多孔硅形成的因素 | 第21-24页 |
| §2．3 多孔硅形成初期的电流—电压特性 | 第24-26页 |
| §2．4 多孔硅的光电化学性质 | 第26-28页 |
| §2．5 多孔硅的光致发光 | 第28-32页 |
| 2．5．1 光致发光的原理 | 第28-29页 |
| 2．5．2 多孔硅的光致发光 | 第29-32页 |
| §2．6 小结 | 第32-34页 |
| 第三章 多孔硅镶嵌激光染料的光谱研究 | 第34-42页 |
| §3．1 引言 | 第34-35页 |
| §3．2 多孔硅／激光染料复合体的发光 | 第35-40页 |
| 3．2．1 复合体的发光光谱 | 第35-38页 |
| 3．2．2 多孔硅荧光淬灭的产生 | 第38-39页 |
| 3．2．3 染料分子的荧光增强效应的产生 | 第39-40页 |
| 3．2．4 能量转移效应 | 第40页 |
| §3．3 小结 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 发表文章目录 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45页 |
