| 第一章 概论 | 第1-27页 |
| 1．1 无机膜 | 第8-13页 |
| 1．2 无机膜的制备方法 | 第13-17页 |
| 1．3 气体膜分离的原理 | 第17-25页 |
| 1．4 研究范围和目的 | 第25-27页 |
| 第二章 硅基裂解膜的制备 | 第27-38页 |
| 2．1 膜的制备 | 第27-34页 |
| 2．2 膜性能的测试 | 第34-38页 |
| 第三章 硅基裂解膜的性能 | 第38-56页 |
| 3．1 裂解膜的制备机理 | 第38-43页 |
| 3．2 硅基裂解膜的渗透性与选择性 | 第43-47页 |
| 3．3 硅基裂解膜的孔径分布 | 第47-49页 |
| 3．4 硅基裂解膜的扫描电镜图象 | 第49-51页 |
| 3．5 前驱体的X-射线衍射 | 第51-56页 |
| 第四章 结论 | 第56-58页 |
| 4．1 结论 | 第56-57页 |
| 4．2 一点设想 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |