摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-9页 |
第一章 引言 | 第9-10页 |
第二章 文献综述 | 第10-27页 |
·研究背景 | 第10-11页 |
·易清洁镀膜玻璃的发展概况 | 第11-12页 |
·易洁净玻璃的理论基础 | 第12-19页 |
·TiO_2晶体结构 | 第12-13页 |
·TiO_2的能带结构 | 第13页 |
·光催化机理 | 第13-14页 |
·光催化性能的影响因素 | 第14-16页 |
·光致亲水性机理 | 第16-18页 |
·影响TiO_2亲水性的因素 | 第18-19页 |
·可见光诱导的TiO_2易洁净薄膜的探索 | 第19-22页 |
·提高TiO_2可见光区光催化性能的方法 | 第19-22页 |
·TiO_2薄膜的制备方法 | 第22-25页 |
·溶胶—凝胶法(Sol-gel) | 第22-23页 |
·喷雾热分解法(Spray Pyrolysis) | 第23页 |
·物理气相沉积(Physical Vapour Deposition) | 第23页 |
·化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition) | 第23-25页 |
·选题角度的确定 | 第25-27页 |
第三章 样品制备与实验表征 | 第27-41页 |
·APCVD实验装置 | 第27-30页 |
·供气系统 | 第27-28页 |
·反应系统 | 第28-29页 |
·测温控温系统 | 第29页 |
·流量控制系统 | 第29-30页 |
·尾气处理系统 | 第30页 |
·基板清洗系统 | 第30页 |
·原料物化性质 | 第30-31页 |
·样品制备 | 第31-35页 |
·基板预处理 | 第31页 |
·TTIP及硫醚的灌制和封装 | 第31-32页 |
·CVD法制备TiO_2薄膜的生长机理 | 第32-33页 |
·实验流程 | 第33-34页 |
·制备宏观均匀薄膜样品的工艺参数控制 | 第34-35页 |
·样品测试与分析手段 | 第35-41页 |
·X射线衍射(XRD) | 第35-37页 |
·场发射扫面电镜(FESEM) | 第37页 |
·X射线能量色散谱(EDX) | 第37页 |
·椭圆偏振光谱仪(Spectroscopic Ellipsometres) | 第37-38页 |
·紫外可见透过光谱(UV/VIS Spectrometer) | 第38页 |
·可见光-近红外反射率测试 | 第38页 |
·薄膜光催化性能的测试 | 第38-41页 |
第四章 镀膜工艺参数对TiO_2薄膜的结构、表面形貌及性能的影响 | 第41-55页 |
·沉积温度对TiO_2薄膜结晶性能的影响 | 第43-44页 |
·沉积温度对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第44-46页 |
·沉积温度对TiO_2薄膜透射/反射光谱的影响 | 第46-47页 |
·沉积温度对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第47-49页 |
·沉积温度对TiO_2薄膜亲水性能的影响 | 第49-50页 |
·底膜的影响 | 第50-52页 |
·底膜对TiO_2薄膜结晶性的影响 | 第50-51页 |
·C-Si-O衬底对TiO_2薄膜光催化性的影响 | 第51-52页 |
·小结 | 第52-55页 |
第五章 掺杂浓度对TiO_(2-x)S_x薄膜结构、表面形貌及性能的影响 | 第55-72页 |
·掺杂浓度对TiO_(2-x)S_x薄膜结晶性能的影响 | 第55-57页 |
·掺杂浓度对TiO_(2-x)S_x薄膜表面形貌的影响 | 第57-62页 |
·掺杂浓度系列样品的表面元素分布 | 第57-60页 |
·掺杂浓度系列样品的表面形貌分析 | 第60-62页 |
·掺杂浓度对TiO_(2-x)S_x薄膜光学性能的影响 | 第62-66页 |
·掺杂浓度对TiO_(2-x)S_x薄膜紫外-可见透射率的影响 | 第62-63页 |
·掺杂浓度系列TiO_(2-x)S_x薄膜近红外反射率变化分析 | 第63-64页 |
·掺杂浓度对TiO_(2-x)S_x薄膜折射率、消光系数的影响 | 第64-66页 |
·掺杂浓度对TiO_(2-x)S_x薄膜光催化性能的影响 | 第66-67页 |
·掺杂浓度对TiO_(2-x)S_x薄膜亲水性能的影响 | 第67-68页 |
·硫掺杂TiO_(2-x)S_x薄膜的可见光响应机理探讨 | 第68-70页 |
·小结 | 第70-72页 |
第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-80页 |
研究生期间发表的学术论文 | 第80-81页 |
致谢 | 第81页 |