掺杂硅中声子散射的分子动力学模拟

摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
1 绪论	第9-19页
·课题背景	第9-10页
·微尺度传热概述	第10-13页
·微尺度传热学的研究方法	第10-11页
·国内外研究现状	第11-13页
·材料的计算与设计	第13-15页
·导热性与声子散射的关系	第15-18页
·热导率的气体动理论	第15-16页
·声子-声子碰撞	第16-17页
·杂质和边界散射	第17-18页
·本文研究目的及内容	第18-19页
2 分子动力学基本理论	第19-36页
·分子动力学介绍	第19-24页
·平衡分子动力学	第21-22页
·非平衡分子动力学	第22-24页
·分子动力学基本步骤	第24-34页
·粒子的位置和速度的初始化	第24-26页
·系综	第26-27页
·原子间作用势	第27-30页
·运动方程积分	第30-32页
·边界条件	第32-34页
·模拟程序流程	第34页
·本章小结	第34-36页
3 掺杂硅中声子散射的模拟	第36-50页
·计算的硬件及软件环境	第36-38页
·硬件环境	第36-38页
·软件环境	第38页
·晶格的构造和模拟参数	第38-39页
·模拟结果与分析	第39-49页
·点缺陷场对声子散射的演化过程	第39-40页
·频率的影响	第40-42页
·掺杂浓度的影响	第42-44页
·掺杂原子质量的影响	第44-49页
·本章小结	第49-50页
4 声子导热的理论分析	第50-60页
·声子导热模型	第50-56页
·Callaway模型	第50-52页
·Holland模型	第52-56页
·声子色散关系	第56-57页
·局域共振	第57-59页
·本章小结	第59-60页
结论	第60-61页
参考文献	第61-65页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况	第65-66页
致谢	第66-67页