| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1. 绪论 | 第10-16页 |
| ·研究背景 | 第10页 |
| ·毫米波无源干扰技术的发展 | 第10-11页 |
| ·膨胀石墨在无源干扰技术中的应用及其研究现状 | 第11-12页 |
| ·膨胀石墨在无源干扰技术中的应用 | 第11-12页 |
| ·国内外的研究现状 | 第12页 |
| ·化学镀在无源干扰中的应用及其研究现状 | 第12-15页 |
| ·化学镀的研究现状 | 第12-13页 |
| ·化学镀在无源干扰中的应用研究 | 第13-15页 |
| ·本论文的研究内容 | 第15-16页 |
| 2. 电磁波衰减理论 | 第16-22页 |
| ·吸收和散射衰减理论 | 第16-18页 |
| ·吸收衰减机理 | 第16-17页 |
| ·散射衰减机理 | 第17-18页 |
| ·瑞利散射和米氏理论 | 第18-20页 |
| ·瑞利散射 | 第18-19页 |
| ·米氏理论 | 第19-20页 |
| ·电磁波与吸波材料的相互作用原理 | 第20-22页 |
| 3. 低温可膨胀石墨的制备及化学镀的原理 | 第22-27页 |
| ·低温可膨胀石墨的概况 | 第22页 |
| ·低温可膨胀石墨的制备及其机理 | 第22-23页 |
| ·低温可膨胀石墨的制备 | 第22-23页 |
| ·低温可膨胀石墨制备机理 | 第23页 |
| ·化学镀的概况 | 第23页 |
| ·化学镀镍和化学镀铜的发展 | 第23-24页 |
| ·化学镀铜的基本原理 | 第24-25页 |
| ·化学镀铜的热力学条件 | 第24-25页 |
| ·化学镀铜的机理 | 第25页 |
| ·化学镀镍的基本原理 | 第25-27页 |
| ·化学镀镍的热力学原理 | 第25页 |
| ·化学镀镍的机理 | 第25-27页 |
| 4. 低温可膨胀石墨化学镀 | 第27-36页 |
| ·普通鳞片石墨和低温可膨胀石墨置换镀铜 | 第27-28页 |
| ·实验药品 | 第27页 |
| ·实验仪器 | 第27页 |
| ·实验步骤 | 第27页 |
| ·实验结果 | 第27-28页 |
| ·普通鳞片石墨和低温可膨胀石墨化学镀铜 | 第28-29页 |
| ·实验药品 | 第28页 |
| ·实验仪器 | 第28页 |
| ·实验步骤 | 第28-29页 |
| ·实验结果 | 第29页 |
| ·化学镀铜的影响因素分析 | 第29-34页 |
| ·预处理的影响 | 第29-30页 |
| ·镀液成分的影响 | 第30-32页 |
| ·pH值的影响 | 第32-33页 |
| ·温度的影响 | 第33-34页 |
| ·普通鳞片石墨和低温可膨胀石墨化学镀镍 | 第34-35页 |
| ·实验药品 | 第34页 |
| ·实验仪器 | 第34页 |
| ·实验步骤 | 第34页 |
| ·实验结果 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 5. 镀铜低温可膨胀石墨的性能表征 | 第36-45页 |
| ·镀铜低温可膨胀石墨的表征 | 第36-39页 |
| ·X射线衍射分析 | 第36-37页 |
| ·热重分析 | 第37-38页 |
| ·差热分析 | 第38-39页 |
| ·经过化学镀改性的低温可膨胀石墨的膨胀性能 | 第39-41页 |
| ·膨胀石墨的制备 | 第39-40页 |
| ·镀铜低温可膨胀石墨和镀镍低温可膨胀石墨膨胀性能的变化 | 第40-41页 |
| ·膨胀石墨的形貌 | 第41-42页 |
| ·化学镀铜对低温可膨胀石墨膨胀性能的影响 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 6. 经过化学镀改性的低温可膨胀石墨衰减毫米波性能研究 | 第45-52页 |
| ·3mm波衰减性能测试实验原理、实验装置、实验步骤 | 第45-46页 |
| ·3mm波动态测试实验原理 | 第45-46页 |
| ·3mm波动态测试试验装置 | 第46页 |
| ·3mm波动态测试实验步骤 | 第46页 |
| ·3mm波衰减性能研究 | 第46-48页 |
| ·8mm波衰减性能测试实验原理、实验装置、实验步骤 | 第48-49页 |
| ·8mm波静态测试实验原理 | 第48页 |
| ·8mm波静态测试实验装置 | 第48-49页 |
| ·8mm波静态测试实验步骤 | 第49页 |
| ·8mm波衰减性能研究 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 7. 本文总结 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
