| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·酞菁的溶解 | 第12-14页 |
| ·路易斯酸溶解酞菁化合物 | 第12-13页 |
| ·质子酸溶解酞菁化合物 | 第13-14页 |
| ·酞菁化合物薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
| ·L-B 膜 | 第14页 |
| ·真空气相沉积法 | 第14-15页 |
| ·旋转涂膜法 | 第15页 |
| ·电沉积法 | 第15-16页 |
| ·铜酞菁的同质多晶性 | 第16-17页 |
| ·酞菁在有机太阳电池中的应用 | 第17-20页 |
| ·在肖特基型（Schottky）电池中的应用 | 第17-18页 |
| ·在p-n 异质结型电池中的应用 | 第18-20页 |
| ·在NPC 型中的应用 | 第20页 |
| ·酞菁在其它方面的应用 | 第20-23页 |
| ·酞菁在电致发光方面的应用 | 第20-21页 |
| ·酞菁在气体传感器方面的应用 | 第21-22页 |
| ·酞菁在有机场效应晶体管方面的应用 | 第22-23页 |
| ·课题意义、内容和创新点 | 第23-24页 |
| 第二章 铜酞菁溶解的研究 | 第24-29页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·实验部分 | 第24页 |
| ·实验试剂及药品 | 第24页 |
| ·实验仪器 | 第24页 |
| ·实验方法 | 第24页 |
| ·实验结果与讨论 | 第24-27页 |
| ·铜酞菁的质子化反应 | 第24-26页 |
| ·质子化的铜酞菁稳定性和溶解性的研究 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 第三章 纳米铜酞菁薄膜的制备 | 第29-40页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验部分 | 第29-31页 |
| ·实验试剂及药品 | 第29页 |
| ·实验仪器 | 第29页 |
| ·电沉积法准备工作 | 第29-30页 |
| ·电沉积法制备纳米铜酞菁薄膜 | 第30页 |
| ·纳米铜酞菁薄膜的后处理 | 第30-31页 |
| ·实验结果和讨论 | 第31-39页 |
| ·电压对纳米铜酞菁薄膜形态和光学性能的影响 | 第31-33页 |
| ·电沉积时间对纳米铜酞菁薄膜形态和光学性能的影响 | 第33-35页 |
| ·溶液温度对纳米铜酞菁薄膜形态和光学性能的影响 | 第35-37页 |
| ·溶液浓度对纳米铜酞菁薄膜形态和光学性能的影响 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 ITO 表面的处理对纳米铜酞菁薄膜晶体结构的影响 | 第40-47页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验部分 | 第40-41页 |
| ·实验试剂 | 第40页 |
| ·实验仪器 | 第40-41页 |
| ·实验方法 | 第41页 |
| ·实验结果与讨论 | 第41-46页 |
| ·甲基偶联剂对薄膜的影响 | 第41-43页 |
| ·硅烷偶联剂对薄膜的影响 | 第43-44页 |
| ·苯基偶联剂对薄膜的影响 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 全文总结 | 第47-48页 |
| ·主要结论 | 第47页 |
| ·展望与设想 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 攻读硕士学位期间的论文和专利 | 第53页 |