| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-12页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·测量材料三阶光学非线性技术的进展 | 第7-10页 |
| ·干涉法的发展 | 第8页 |
| ·4f 相干成像系统的发展 | 第8-10页 |
| ·本论文研究目的及主要内容 | 第10-12页 |
| 第2章 基于4f 相干成像系统的双光束干涉测量光学非线性理论分析 | 第12-19页 |
| ·基于4f 相干成像技术的双光束干涉系统的基本思想 | 第12页 |
| ·基于4f 相干成像技术的双光束干涉系统的理论分析 | 第12-15页 |
| ·高斯分解法对双光束系统理论分析 | 第15-17页 |
| ·本章小结 | 第17-19页 |
| 第3章 双光束干涉系统测量光学非线性的数值模拟 | 第19-46页 |
| ·线性情况下干涉条纹规律 | 第19-25页 |
| ·双光束系统的入射面放置圆形光阑 | 第19-20页 |
| ·双光束系统的入射面放置相位光阑 | 第20-25页 |
| ·纯双光子吸收对干涉条纹的影响 | 第25-28页 |
| ·纯非线性折射对条纹的影响 | 第28-33页 |
| ·非线性吸收与非线性折射共存对条纹的影响 | 第33-38页 |
| ·反推法研究三阶光学非线性效应 | 第38-44页 |
| ·反推法的基本理论 | 第38-40页 |
| ·反推法的数值计算 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 致谢 | 第52页 |
