摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4页 |
第1章 绪论 | 第8-19页 |
1.1 元素形态分析的意义 | 第8-11页 |
1.1.1 形态分析及其意义 | 第8-9页 |
1.1.2 硒元素的形态 | 第9-10页 |
1.1.3 砷元素的形态 | 第10-11页 |
1.2 形态分析检测技术及进展 | 第11-15页 |
1.2.1 样品前处理方法 | 第12-13页 |
1.2.2 形态分析检测技术 | 第13-14页 |
1.2.3 CE-ICP-MS联用技术在形态分析中的应用 | 第14-15页 |
1.3 CE-ICP-MS接口技术发展概况 | 第15-17页 |
1.4 本论文研究目的及内容 | 第17-19页 |
1.4.1 研究背景及目的 | 第17-18页 |
1.4.2 研究内容 | 第18-19页 |
第2章 CE和 ICP-MS的研究 | 第19-28页 |
2.1 毛细管电泳 | 第19-23页 |
2.1.1 电泳和毛细管电泳 | 第19页 |
2.1.2 双电层和Zeta电位 | 第19-20页 |
2.1.3 电渗现象 | 第20-21页 |
2.1.4 毛细管电泳分离原理 | 第21-22页 |
2.1.5 毛细管电泳的分类和应用 | 第22-23页 |
2.2 ICP-MS主要结构 | 第23-27页 |
2.2.1 ICP离子源 | 第24-25页 |
2.2.2 接口锥 | 第25页 |
2.2.3 四级杆质量分析器 | 第25-26页 |
2.2.4 碰撞反应池 | 第26页 |
2.2.5 真空系统 | 第26-27页 |
2.3 本章小结 | 第27-28页 |
第3章 自动进样系统及其电路设计 | 第28-48页 |
3.1 进样系统总体结构 | 第28-30页 |
3.2 进样原理 | 第30-31页 |
3.3 控制电路设计 | 第31-42页 |
3.3.1 控制电路总体结构 | 第31-32页 |
3.3.2 微控制器MCU选型 | 第32-33页 |
3.3.3 RS485 通讯电路的设计 | 第33-34页 |
3.3.4 步进电机控制电路的设计 | 第34-36页 |
3.3.5 电磁阀控制电路设计 | 第36-37页 |
3.3.6 电源电路的设计 | 第37-42页 |
3.4 CE和 ICP-MS的连接 | 第42-45页 |
3.4.1 接口连接中的主要问题 | 第42页 |
3.4.2 流速匹配 | 第42-43页 |
3.4.3 导电连接 | 第43-44页 |
3.4.4 雾化器 | 第44-45页 |
3.4.5 高压电源 | 第45页 |
3.4.6 气体流量监测 | 第45页 |
3.5 进样系统的操作指令 | 第45-46页 |
3.6 进样系统性能测试 | 第46-47页 |
3.6.1 采样频率及秒均进样量测试 | 第46-47页 |
3.6.2 进样量的稳定性 | 第47页 |
3.7 本章小结 | 第47-48页 |
第4章 CE-ICP-MS用于硒形态分析 | 第48-56页 |
4.1 引言 | 第48页 |
4.2 实验部分 | 第48-49页 |
4.2.1 仪器与试剂 | 第48-49页 |
4.2.2 实验方法 | 第49页 |
4.2.3 样品处理 | 第49页 |
4.3 结果与讨论 | 第49-55页 |
4.3.1 氨气流速优化 | 第50页 |
4.3.2 缓冲体系的选择 | 第50-51页 |
4.3.3 缓冲溶pH值优化 | 第51页 |
4.3.4 分离电压对分离的影响 | 第51-52页 |
4.3.5 最佳条件及分离谱图 | 第52-53页 |
4.3.6线性度实验 | 第53-54页 |
4.3.7 相对标准方差及检测限 | 第54页 |
4.3.8 样品分析及加标回收率 | 第54-55页 |
4.4 本章小结 | 第55-56页 |
第5章 CE-ICP-MS用于砷形态分析 | 第56-63页 |
5.1 引言 | 第56页 |
5.2 实验部分 | 第56-57页 |
5.2.1 仪器及试剂 | 第56页 |
5.2.2 样品处理 | 第56-57页 |
5.2.3 实验方法 | 第57页 |
5.3 结果与讨论 | 第57-62页 |
5.3.1 分离电压对分离的影响 | 第57-58页 |
5.3.2 缓冲溶液浓度比对分离的影响 | 第58-59页 |
5.3.3 缓冲液pH对分离的影响 | 第59-61页 |
5.3.4线性度实验 | 第61页 |
5.3.5 相对标准方差及检测限 | 第61页 |
5.3.6 样品分析及加标回收率 | 第61-62页 |
5.4 本章小结 | 第62-63页 |
第6章 总结与展望 | 第63-64页 |
6.1 工作总结 | 第63页 |
6.2 工作展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-71页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第71-72页 |
致谢 | 第72页 |