| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4页 |
| 第1章 引言 | 第7-17页 |
| 1.1 选题背景 | 第7页 |
| 1.2 基于光学方法的脉冲电磁场的测量技术概述 | 第7-8页 |
| 1.3 国内外进展调研 | 第8-15页 |
| 1.3.1 国外研究进展 | 第8-13页 |
| 1.3.2 国内研究进展 | 第13-15页 |
| 1.4 论文的主要工作及结构 | 第15-17页 |
| 第2章 电光测量原理 | 第17-28页 |
| 2.1 线性电光效应的基本原理 | 第17-19页 |
| 2.2 电光材料 | 第19-22页 |
| 2.2.1 电光材料概述 | 第19页 |
| 2.2.2 常用电光材料 | 第19-20页 |
| 2.2.3 电光材料的评价 | 第20-21页 |
| 2.2.4 铌酸锂晶体 | 第21-22页 |
| 2.3 光纤及器件技术概述 | 第22-24页 |
| 2.3.1 保偏光纤 | 第22-23页 |
| 2.3.2 偏振器件及保偏光纤偏振器 | 第23页 |
| 2.3.3 自聚焦透镜与光纤准直镜 | 第23-24页 |
| 2.4 电光调制与测量 | 第24-27页 |
| 2.4.1 电光测量系统的构成 | 第24-26页 |
| 2.4.2 电光测量系统的设计 | 第26-27页 |
| 2.5 小结 | 第27-28页 |
| 第3章 分立器件型电光测量技术研究 | 第28-38页 |
| 3.1 泡克尔斯单元偏振调制技术研究 | 第28-30页 |
| 3.1.1 实验设备介绍 | 第28-29页 |
| 3.1.2 实验结果分析 | 第29-30页 |
| 3.2 分立器件型电光测量技术研究 | 第30-33页 |
| 3.2.1 实验设备介绍 | 第30-31页 |
| 3.2.2 测量方案介绍 | 第31-33页 |
| 3.3 U-BENCH型电光测量技术研究 | 第33-37页 |
| 3.3.1 U-bench测量单元的设计以及制作 | 第33-34页 |
| 3.3.2 自制线偏振光源 | 第34-35页 |
| 3.3.3 U-bench测量单元的实验研究 | 第35-37页 |
| 3.4 小结 | 第37-38页 |
| 第4章 全光纤化电光测量技术研究 | 第38-48页 |
| 4.1 微型传感探头设计及制作 | 第38-40页 |
| 4.2 全光纤化电光测量系统测量平板电场 | 第40-42页 |
| 4.3 全光纤化电光测量系统测量脉冲高压源电场信号 | 第42-44页 |
| 4.4 全光纤化电光测量系统测量波导内的电场 | 第44-47页 |
| 4.5 小结 | 第47-48页 |
| 第5章 结论与展望 | 第48-51页 |
| 5.1 研究总结 | 第48-49页 |
| 5.2 论文的创新之处 | 第49页 |
| 5.3 工作展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第58-59页 |