| 摘要 | 第13-15页 |
| Abstract | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第17-46页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第17-20页 |
| 1.1.1 课题来源与目标 | 第17页 |
| 1.1.2 课题背景和研究意义 | 第17-20页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第20-44页 |
| 1.2.1 SiC反射镜加工方法 | 第20-25页 |
| 1.2.2 等离子体加工 | 第25-44页 |
| 1.3 本文主要内容 | 第44-46页 |
| 第二章 电弧增强等离子体发生器设计和电压特性研究 | 第46-93页 |
| 2.1 电弧增强等离子体加工系统 | 第46-49页 |
| 2.2 电弧增强等离子体发生器 | 第49-70页 |
| 2.2.1 电弧增强等离子体炬管设计 | 第52-58页 |
| 2.2.2 电弧增强等离子体增压设计 | 第58-68页 |
| 2.2.3 等离子体发生器设计 | 第68-70页 |
| 2.3 电弧增强等离子体电压特性研究 | 第70-91页 |
| 2.3.1 自由燃烧等离子体电压测量 | 第70-78页 |
| 2.3.2 电弧等离子体电压测量 | 第78-83页 |
| 2.3.3 电弧等离子体-导电材料界面处电压测量 | 第83-89页 |
| 2.3.4 电弧增强等离子体放电模型 | 第89-91页 |
| 2.4 本章小结 | 第91-93页 |
| 第三章 电弧增强等离子体加工机理研究 | 第93-118页 |
| 3.1 普通电感耦合等离子体加工的表面动力学过程 | 第93-97页 |
| 3.1.1 表面动力学理论 | 第93-95页 |
| 3.1.2 普通电感耦合等离子体加工的表面动力学 | 第95-97页 |
| 3.2 电弧增强等离子体加工的表面动力学过程 | 第97-109页 |
| 3.2.1 界面处的离子作用 | 第97-104页 |
| 3.2.2 电弧增强等离子体加工的表面动力学 | 第104-106页 |
| 3.2.3 电弧增强等离子体加工效率 | 第106-109页 |
| 3.3 电弧增强等离子体加工效率模型 | 第109-116页 |
| 3.3.1 活化能 | 第109-110页 |
| 3.3.2 电弧增强等离子体加工效率模型 | 第110-116页 |
| 3.4 本章小结 | 第116-118页 |
| 第四章 电弧增强等离子体加工工艺研究 | 第118-148页 |
| 4.1 电弧增强等离子体加工稳定性 | 第119-122页 |
| 4.1.1 去除函数建模 | 第119-120页 |
| 4.1.2 去除函数稳定性 | 第120-122页 |
| 4.2 电弧增强等离子体加工温度 | 第122-131页 |
| 4.2.1 工艺参数对加工温度的影响 | 第122-128页 |
| 4.2.2 等离子体扫描速度对加工效率的影响 | 第128-129页 |
| 4.2.3 驻留时间求解和路径规划 | 第129-131页 |
| 4.3 电弧增强等离子体加工效率 | 第131-137页 |
| 4.3.1 靶距对加工效率的影响 | 第131-134页 |
| 4.3.2 功率和反应气体流量对加工效率的影响 | 第134-137页 |
| 4.4 电弧增强等离子体加工表面质量 | 第137-141页 |
| 4.4.1 等离子体加工对表面质量的影响 | 第137-138页 |
| 4.4.2 靶距对电弧增强等离子体加工表面质量的影响 | 第138-141页 |
| 4.5 SiC反射镜的电弧增强等离子体修形 | 第141-146页 |
| 4.5.1 SiC反射镜的强电弧增强等离子体修形 | 第141-144页 |
| 4.5.2 SiC反射镜的弱电弧增强等离子体修形 | 第144-146页 |
| 4.6 本章小结 | 第146-148页 |
| 第五章 总结与展望 | 第148-152页 |
| 5.1 全文总结 | 第148-150页 |
| 5.2 研究展望 | 第150-152页 |
| 致谢 | 第152-154页 |
| 参考文献 | 第154-169页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第169页 |