| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 铜的性质及应用 | 第11-13页 |
| 1.1.1 铜的性质 | 第11-12页 |
| 1.1.2 铜的用途 | 第12-13页 |
| 1.2 电解法制备铜概述 | 第13-15页 |
| 1.2.1 标准阴极铜的制备方法 | 第13页 |
| 1.2.2 高纯铜的电解精炼法 | 第13-15页 |
| 1.3 铜电结晶的理论研究进展 | 第15-21页 |
| 1.3.1 铜电结晶的研究方法 | 第15-18页 |
| 1.3.2 铜电结晶的动力学研究进展 | 第18-21页 |
| 1.4 研究目的及意义 | 第21-23页 |
| 第2章 实验原理 | 第23-31页 |
| 2.1 电化学方法原理 | 第23-26页 |
| 2.1.1 循环伏安法 | 第23-24页 |
| 2.1.2 计时安培法 | 第24-26页 |
| 2.2 阴极沉积原理 | 第26-29页 |
| 2.2.1 液相传质 | 第26-27页 |
| 2.2.2 电子转移 | 第27-28页 |
| 2.2.3 电结晶 | 第28-29页 |
| 2.3 分子动力学 | 第29-31页 |
| 2.3.1 分子动力学基本原理 | 第29-30页 |
| 2.3.2 系综 | 第30-31页 |
| 第3章 实验 | 第31-41页 |
| 3.1 实验原料 | 第31-33页 |
| 3.1.1 电化学实验原料 | 第31-32页 |
| 3.1.2 配置6N铜实验原料 | 第32页 |
| 3.1.3 实验试剂 | 第32-33页 |
| 3.2 实验仪器 | 第33-35页 |
| 3.3 溶液体系 | 第35页 |
| 3.4 实验步骤 | 第35-38页 |
| 3.4.1 电化学实验前期准备 | 第35-37页 |
| 3.4.2 电化学测试 | 第37页 |
| 3.4.3 电化学实验后期处理 | 第37-38页 |
| 3.5 主要检测方法 | 第38-41页 |
| 3.5.1 电解液中Cu~(2+)浓度的测定 | 第38-39页 |
| 3.5.2 电解液中pH值的测定 | 第39页 |
| 3.5.3 工作电极产物薄膜形貌分析 | 第39-41页 |
| 第4章 硝酸体系铜电结晶形核机制研究 | 第41-63页 |
| 4.1 铜-水电化学过程 | 第41-44页 |
| 4.1.1 构建电势-pH图方法 | 第41-42页 |
| 4.1.2 Cu-H_2O系电势-pH图 | 第42-44页 |
| 4.2 铜电结晶的循环伏安分析 | 第44-51页 |
| 4.2.1 扫描范围的确定 | 第44-46页 |
| 4.2.2 循环扫描次数对CV曲线的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.3 铜离子浓度对循环伏安曲线的影响 | 第47-48页 |
| 4.2.4 CV曲线表面形核机制分析 | 第48-50页 |
| 4.2.5 不同pH对循环伏安曲线的影响 | 第50-51页 |
| 4.3 计时安培法研究铜电结晶形核机制 | 第51-60页 |
| 4.3.1 形核模型的拟合和控制步骤的确定 | 第51-57页 |
| 4.3.2 pH对形核的影响 | 第57-59页 |
| 4.3.3 沉积电位对形核的影响 | 第59-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-63页 |
| 第5章 GULP模拟形核过程的初步研究 | 第63-75页 |
| 5.1 GULP计算步骤 | 第63-66页 |
| 5.2 模拟计算模型优化 | 第66-67页 |
| 5.3 铜团簇电沉积形核结果分析 | 第67-73页 |
| 5.3.1 铜团簇在钛衬底上的着陆过程能量变化 | 第69-71页 |
| 5.3.2 铜团簇沉积物在Ti衬底表面上的扩散 | 第71-72页 |
| 5.3.3 铜团簇在衬底表面上的由于氧化还原的重构情况 | 第72-73页 |
| 5.4 本章小结 | 第73-75页 |
| 第6章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 致谢 | 第83页 |