| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 硬质涂层简介 | 第12-18页 |
| 1.2.1 硬质涂层的发展概况 | 第12-15页 |
| 1.2.2 硬质涂层的分类与应用 | 第15-17页 |
| 1.2.3 硬质涂层的强化机制 | 第17-18页 |
| 1.3 物理气相沉积技术 | 第18-26页 |
| 1.3.1 真空蒸发镀膜 | 第19页 |
| 1.3.2 真空溅射镀膜 | 第19-24页 |
| 1.3.3 薄膜生长与薄膜结构 | 第24-26页 |
| 1.4 涂层的热稳定性 | 第26-27页 |
| 1.5 选题的意义及研究内容 | 第27-30页 |
| 1.5.1 选题背景及意义 | 第27-28页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第28页 |
| 1.5.3 实验方案 | 第28-30页 |
| 第二章 (V,Al)_(1-x)Ta_xN涂层的制备及性能表征方法 | 第30-40页 |
| 2.1 镀膜设备 | 第30页 |
| 2.2 镀膜工艺 | 第30-32页 |
| 2.2.1 实验准备 | 第30-31页 |
| 2.2.2 涂层制备 | 第31-32页 |
| 2.3 表征方法 | 第32-35页 |
| 2.3.1 X射线能量散射(EDX) | 第32页 |
| 2.3.2 X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
| 2.3.3 X射线近边吸收谱(XANES) | 第33页 |
| 2.3.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第33页 |
| 2.3.5 原子力显微镜(AFM) | 第33-34页 |
| 2.3.6 透射电子显微镜(TEM) | 第34-35页 |
| 2.4 性能测试 | 第35-38页 |
| 2.4.1 硬度与模量测试 | 第35-36页 |
| 2.4.2 应力测试 | 第36页 |
| 2.4.3 结合力测试 | 第36-37页 |
| 2.4.4 韧性表征 | 第37页 |
| 2.4.5 热稳定性表征 | 第37页 |
| 2.4.6 电阻率测试 | 第37-38页 |
| 2.4.7 摩擦行为测试 | 第38页 |
| 2.5 本章小结 | 第38-40页 |
| 第三章 Ta含量对(V,Al)_(1-x)Ta_xN涂层结构的影响 | 第40-54页 |
| 3.1 涂层的化学成分 | 第40-41页 |
| 3.2 微结构表征 | 第41-47页 |
| 3.2.1 XRD测试 | 第41-42页 |
| 3.2.2 SEM表征 | 第42-45页 |
| 3.2.3 TEM表征 | 第45-47页 |
| 3.2.4 XANES | 第47页 |
| 3.3 电阻率测试 | 第47-48页 |
| 3.4 结构进化原因分析 | 第48-51页 |
| 3.4.1 沉积过程能量来源分析 | 第48-49页 |
| 3.4.2 TRIM计算粒子能量分布 | 第49-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-54页 |
| 第四章 Ta含量对(V,Al)_(1-x)Ta_xN涂层性能的影响 | 第54-68页 |
| 4.1 力学性能测试 | 第54-58页 |
| 4.1.1 涂层的结合力 | 第54页 |
| 4.1.2 硬度和模量测试 | 第54-56页 |
| 4.1.3 涂层硬化机理分析 | 第56-58页 |
| 4.2 韧性表征 | 第58-64页 |
| 4.2.1 维氏压痕 | 第58-60页 |
| 4.2.2 纳米划痕 | 第60-62页 |
| 4.2.3 结果分析 | 第62-64页 |
| 4.3 涂层热稳定性 | 第64-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 Ta含量对(V,Al)_(1-x)Ta_xN涂层摩擦学行为的影响 | 第68-72页 |
| 5.1 摩擦磨损测试 | 第68页 |
| 5.2 摩擦系数 | 第68-69页 |
| 5.3 磨损率 | 第69-70页 |
| 5.4 磨损机理 | 第70-71页 |
| 5.5 本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 6.1 结论 | 第72-73页 |
| 6.2 展望 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第84页 |
