| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-51页 |
| 1.1 阳极氧化铝(AAO) | 第14-36页 |
| 1.1.1 阳极氧化铝概述 | 第14-15页 |
| 1.1.2 阳极氧化铝的生长机理 | 第15-23页 |
| 1.1.3 阳极氧化铝的基本结构参数 | 第23-26页 |
| 1.1.4 阳极氧化铝模板现有结构及制备方法 | 第26-32页 |
| 1.1.5 阳极氧化铝模板的应用 | 第32-35页 |
| 1.1.6 阳极氧化铝模板自身及应用中存在的问题 | 第35-36页 |
| 1.2 表面增强拉曼散射(SERS) | 第36-46页 |
| 1.2.1 拉曼散射及表面增强拉曼散射 | 第36-37页 |
| 1.2.2 表面增强拉曼散射的增强机制 | 第37-39页 |
| 1.2.3 表面增强拉曼散射基底 | 第39-42页 |
| 1.2.4 表面增强拉曼散射的应用与发展 | 第42-45页 |
| 1.2.5 表面增强拉曼散射领域存在的问题 | 第45-46页 |
| 1.3 阳极氧化铝模板在SERS领域的应用 | 第46-48页 |
| 1.4 本论文的研究思路和内容 | 第48-51页 |
| 第二章 阳极氧化铝多级周期结构及其生长机制的探究 | 第51-67页 |
| 2.1 研究背景 | 第51-54页 |
| 2.2 实验部分 | 第54-56页 |
| 2.2.1 实验材料与所需仪器设备 | 第54-55页 |
| 2.2.2 压印模板的制备 | 第55页 |
| 2.2.3 多级周期AAO模板的制备 | 第55-56页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第56-65页 |
| 2.3.1 多级周期阳极氧化过程电解质的选择 | 第56-58页 |
| 2.3.2 多级周期AAO模板欠电压阳极氧化 | 第58-59页 |
| 2.3.3 多级周期AAO模板孔道生长机制的探究 | 第59-64页 |
| 2.3.4 欠电压氧化方法与常规氧化方法的区别 | 第64-65页 |
| 2.3.5 纳米材料多级周期结构化 | 第65页 |
| 2.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 第三章 多级周期银纳米冠阵列背向检测SERS基底 | 第67-79页 |
| 3.1 研究背景 | 第67-68页 |
| 3.2 实验部分 | 第68-70页 |
| 3.2.1 实验材料与所需仪器设备 | 第68-69页 |
| 3.2.2 多级周期AAO的制备 | 第69页 |
| 3.2.3 多级周期银纳米冠阵列的制备 | 第69-70页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第70-78页 |
| 3.3.1 多级周期银纳米冠阵列形貌调控 | 第70-72页 |
| 3.3.2 多级周期银纳米冠基底的等离子体共振带 | 第72-73页 |
| 3.3.3 多级周期银纳米冠间隙尺寸的选择 | 第73-74页 |
| 3.3.4 银纳米冠三维SERS基底的重复性 | 第74-75页 |
| 3.3.5 银纳米冠三维SERS基底检测方式的讨论 | 第75-77页 |
| 3.3.6 银纳米冠SERS基底对农药残留的检测 | 第77-78页 |
| 3.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 第四章 多级周期金刚石SERS印章 | 第79-93页 |
| 4.1 研究背景 | 第79-81页 |
| 4.2 实验部分 | 第81-83页 |
| 4.2.1 实验材料与所需仪器设备 | 第81-82页 |
| 4.2.2 多级周期超薄阳极氧化铝薄膜(HUTAM)的制备 | 第82页 |
| 4.2.3 HUTAM的转移 | 第82-83页 |
| 4.2.4 金刚石基底的图案刻蚀 | 第83页 |
| 4.2.5 金刚石SERS印章的使用方法 | 第83页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第83-91页 |
| 4.3.1 HUTAM和金刚石印章的形貌表征 | 第83-85页 |
| 4.3.2 多级周期超薄模板的转移 | 第85-86页 |
| 4.3.3 金刚石刻蚀工艺的优化 | 第86-88页 |
| 4.3.4 金刚石印章制备多级周期纳米棒阵列 | 第88-90页 |
| 4.3.5 多级周期纳米棒阵列的SERS性能 | 第90-91页 |
| 4.4 本章小结 | 第91-93页 |
| 第五章 等离激元驱动多级周期纳米棒阵列动态响应 | 第93-109页 |
| 5.1 研究背景 | 第93-95页 |
| 5.2 实验部分 | 第95-98页 |
| 5.2.1 实验材料与所需仪器设备 | 第95-96页 |
| 5.2.2 多级周期纳米棒阵列的制备 | 第96-97页 |
| 5.2.3 FDTD模拟 | 第97-98页 |
| 5.2.4 纳米棒动态响应过程 | 第98页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第98-108页 |
| 5.3.1 多级周期纳米棒长径比优化 | 第98-99页 |
| 5.3.2 多级周期纳米棒动态响应过程形貌表征 | 第99-100页 |
| 5.3.3 等离激元驱动纳米棒动态响应机理 | 第100-102页 |
| 5.3.4 FDTD模拟动态过程电场分布 | 第102-104页 |
| 5.3.5 多级周期纳米棒阵列的时序SERS检测 | 第104-105页 |
| 5.3.6 动态纳米棒聚集所得增强因子 | 第105-107页 |
| 5.3.7 等离激元动态驱动过程的稳定性 | 第107-108页 |
| 5.4 本章小结 | 第108-109页 |
| 第六章 全文总结及展望 | 第109-111页 |
| 参考文献 | 第111-133页 |
| 作者简介及攻读学位期间科研成果 | 第133-137页 |
| 致谢 | 第137-138页 |