钼酸铋光催化材料的合成、表征与性能研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 半导体光催化概述和基本原理 | 第10-14页 |
| 1.1.1 半导体光催化概述 | 第10页 |
| 1.1.2 半导体光催化原理 | 第10-14页 |
| 1.2 Bi_2MoO_6半导体光催化材料 | 第14-23页 |
| 1.2.1 Bi_2MoO_6结构特征 | 第14-15页 |
| 1.2.2 Bi_2MoO_6的合成 | 第15-18页 |
| 1.2.3 Bi_2MoO_6的改性 | 第18-19页 |
| 1.2.4 Bi_2MoO_6的应用 | 第19-23页 |
| 1.3 本论文选题依据及意义 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-30页 |
| 第二章 超薄钼酸铋的合成、表征及性能研究 | 第30-50页 |
| 2.1 引言 | 第30页 |
| 2.2 实验部分 | 第30-33页 |
| 2.2.1 实验试剂与仪器 | 第30-31页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第31-32页 |
| 2.2.3 样品结构与性能表征 | 第32-33页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第33-38页 |
| 2.3.1 XRD及Raman分析 | 第33-34页 |
| 2.3.2 XPS分析 | 第34-35页 |
| 2.3.3 SEM分析 | 第35-36页 |
| 2.3.4 TEM分析 | 第36-38页 |
| 2.4 吸附和催化性能研究 | 第38-44页 |
| 2.4.1 吸附和催化性能测试 | 第38-39页 |
| 2.4.2 吸附和催化机理研究 | 第39-44页 |
| 2.5 小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-50页 |
| 第三章 碳酸根掺杂钼酸铋的合成、表征及性能研究 | 第50-79页 |
| 3.1 引言 | 第50页 |
| 3.2 实验部分 | 第50-54页 |
| 3.2.1 实验试剂与仪器 | 第50-52页 |
| 3.2.2 实验步骤 | 第52页 |
| 3.2.3 样品结构与性能表征 | 第52-54页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第54-65页 |
| 3.3.1 XRD及Raman分析 | 第54-56页 |
| 3.3.2 TG分析 | 第56-57页 |
| 3.3.3 FT-IR分析 | 第57-58页 |
| 3.3.4 XPS分析 | 第58-60页 |
| 3.3.5 SEM分析 | 第60-61页 |
| 3.3.6 TEM分析 | 第61-62页 |
| 3.3.7 BET分析 | 第62-63页 |
| 3.3.8 能带结构计算 | 第63-64页 |
| 3.3.9 DFT计算 | 第64-65页 |
| 3.4 光催化性能和机理探究 | 第65-73页 |
| 3.4.1 光催化降解污染物 | 第65-70页 |
| 3.4.2 光催化机理探究 | 第70-73页 |
| 3.5 小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 第四章 碳掺杂钼酸铋的合成、表征及性能研究 | 第79-106页 |
| 4.1 引言 | 第79-80页 |
| 4.2 实验部分 | 第80-83页 |
| 4.2.1 实验试剂与仪器 | 第80-81页 |
| 4.2.2 实验步骤 | 第81-82页 |
| 4.2.3 样品结构与性能表征 | 第82-83页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第83-90页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第83-84页 |
| 4.3.2 Raman分析 | 第84-85页 |
| 4.3.3 FT-IR分析 | 第85页 |
| 4.3.4 SEM分析 | 第85-86页 |
| 4.3.5 TEM分析 | 第86-87页 |
| 4.3.6 BET分析 | 第87-88页 |
| 4.3.7 XPS分析 | 第88-90页 |
| 4.4 光催化和光动力治疗性能研究 | 第90-99页 |
| 4.4.1 光催化性能测试 | 第90-94页 |
| 4.4.2 光动力治疗 | 第94-95页 |
| 4.4.3 光降解和光动力治疗机理讨论 | 第95-99页 |
| 4.5 小结 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-106页 |
| 攻读硕士期间发表论文情况 | 第106-107页 |
| 致谢 | 第107页 |
