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基于28纳米工艺的光通信芯片低功耗物理设计

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第一章 绪论第9-12页
    1.1 课题的背景第9-10页
    1.2 论文的主要内容第10-12页
第二章 低功耗技术的理论研究第12-38页
    2.1 功耗的基本理论第12-17页
        2.1.1 静态功耗第12-14页
        2.1.2 动态功耗第14-16页
        2.1.3 随工艺发展芯片功耗结构的变化第16-17页
    2.2 低功耗设计系统方案选择及设计原则第17-18页
    2.3 低功耗设计方法学研究第18-38页
        2.3.1 系统构架级低功耗策略第19-27页
        2.3.2 代码实现级低功耗策略第27-33页
        2.3.3 门级和晶体管级低功耗策略第33-35页
        2.3.4 基于UPF标准的低功耗设计流程第35-38页
第三章 基于28纳米工艺光通信芯片子系统级低功耗物理设计第38-71页
    3.1 光通信芯片设计指标第38-39页
    3.2 数据准备和建库第39-42页
    3.3 布局规划第42-46页
    3.4 电源网络规划第46-50页
    3.5 标准单元布局第50-55页
    3.6 低功耗时钟树设计第55-62页
    3.7 时钟树后优化第62-63页
    3.8 绕线第63-66页
    3.9 静态时序分析第66-69页
    3.10 物理验证第69-71页
第四章 物理设计低功耗策略及功耗分析第71-79页
    4.1 物理设计低功耗策略第71-76页
        4.1.1 漏电功耗优化策略第71-73页
        4.1.2 动态功耗优化策略第73-76页
    4.2 芯片功耗分析第76-79页
第五章 总结第79-80页
致谢第80-81页
参考文献第81-83页
攻读硕士学位期间取得的成果第83-84页

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