| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| 1.1 课题背景 | 第11-14页 |
| 1.2 光学薄膜制备技术概述 | 第14-23页 |
| 1.2.1 真空蒸镀法 | 第16-17页 |
| 1.2.2 离子镀法 | 第17-18页 |
| 1.2.3 磁控溅射法 | 第18-19页 |
| 1.2.4 溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| 1.2.5 离子束溅射沉积法 | 第20页 |
| 1.2.6 离子束辅助沉积法 | 第20-21页 |
| 1.2.7 化学气相沉积法 | 第21页 |
| 1.2.8 分子束外延法 | 第21-22页 |
| 1.2.9 脉冲激光沉积法 | 第22页 |
| 1.2.10 原子层沉积法 | 第22-23页 |
| 1.3 金属化聚合物表面改性概述 | 第23-27页 |
| 1.3.1 离子束辐照 | 第24页 |
| 1.3.2 等离子体处理 | 第24-25页 |
| 1.3.3 离子注入 | 第25-26页 |
| 1.3.4 化学法和光化学法 | 第26页 |
| 1.3.5 准分子激光刻蚀 | 第26-27页 |
| 1.4 本文主要研究内容和意义 | 第27-30页 |
| 第二章 实验部分 | 第30-45页 |
| 2.1 实验设备 | 第30-34页 |
| 2.1.1 MEVVA 源离子注入沉积复合镀膜机 | 第30-33页 |
| 2.1.2 磁控溅射沉积系统 | 第33-34页 |
| 2.2 实验材料 | 第34页 |
| 2.3 样品制备 | 第34-38页 |
| 2.3.1 基材预处理 | 第34-35页 |
| 2.3.2 薄玻璃铝反射镜的制备 | 第35-37页 |
| 2.3.3 柔性薄膜反射材料的制备 | 第37-38页 |
| 2.4 理论模拟 | 第38-39页 |
| 2.4.1 光学薄膜反射率理论模拟 | 第38页 |
| 2.4.2 离子注入过程理论模拟 | 第38-39页 |
| 2.5 分析测试 | 第39-45页 |
| 2.5.1 材料反射率测试 | 第39-43页 |
| 2.5.2 薄膜厚度的控制与测量 | 第43页 |
| 2.5.3 薄膜表面形貌观察 | 第43页 |
| 2.5.4 薄膜附着力测试 | 第43-45页 |
| 第三章 薄玻璃铝反射镜的性能研究 | 第45-70页 |
| 3.1 FCVAD 镀制铝膜厚度的控制与影响因素分析 | 第45-53页 |
| 3.1.1 铝膜厚度随负压的变化 | 第45-48页 |
| 3.1.2 铝膜厚度随占空比的变化 | 第48-50页 |
| 3.1.3 铝膜厚度随弧流的变化 | 第50-52页 |
| 3.1.4 铝膜厚度随沉积库仑数的变化 | 第52-53页 |
| 3.2 FCVAD 镀制薄玻璃铝反射镜的反射性能分析 | 第53-62页 |
| 3.2.1 铝反射镜的反射率随厚度的变化 | 第53-54页 |
| 3.2.2 铝反射镜的反射率随沉积库仑数的变化 | 第54-56页 |
| 3.2.3 铝反射镜的反射率随负压的变化 | 第56-58页 |
| 3.2.4 铝反射镜的反射率随弧流的变化 | 第58-60页 |
| 3.2.5 铝反射镜的反射率随占空比的变化 | 第60-62页 |
| 3.3 FCVAD 镀制铝膜附着力性能分析与研究 | 第62-63页 |
| 3.4 两种薄膜制备技术的比较 | 第63-68页 |
| 3.5 本章小结 | 第68-70页 |
| 第四章 柔性太阳能高反射率薄膜材料的初步探讨 | 第70-77页 |
| 4.1 离子注入过程的理论模拟 | 第71-72页 |
| 4.2 样品的表面形貌观察 | 第72-74页 |
| 4.3 样品的反射性能分析 | 第74页 |
| 4.4 样品的附着力性能分析 | 第74-75页 |
| 4.5 本章小结 | 第75-77页 |
| 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-88页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 附件 | 第90页 |