| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 C/C复合材料应用背景 | 第10-11页 |
| 1.2.1 高温结构材料 | 第10-11页 |
| 1.2.2 烧蚀材料 | 第11页 |
| 1.3 C/C复合材料的氧化 | 第11-12页 |
| 1.4 C/C复合材料的烧蚀 | 第12-13页 |
| 1.5 C/C复合材料的改性方法 | 第13-16页 |
| 1.5.1 基体改性 | 第13-14页 |
| 1.5.2 涂层改性 | 第14-16页 |
| 1.6 涂层材料的选择 | 第16-20页 |
| 1.6.1 ZrB_2的结构和性质 | 第17-18页 |
| 1.6.2 SiC第二相的选择 | 第18页 |
| 1.6.3 ZrB_2基涂层的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.7 研究思路及内容 | 第20-22页 |
| 2 实验方法 | 第22-29页 |
| 2.1 实验材料 | 第22-23页 |
| 2.1.1 C/C、C/C-SiC复合材料 | 第22-23页 |
| 2.1.2 刷涂所用材料 | 第23页 |
| 2.1.3 CVD法制备SiC所用材料 | 第23页 |
| 2.2 实验仪器和设备 | 第23-26页 |
| 2.2.1 真空碳管烧结炉 | 第24页 |
| 2.2.2 CVD设备 | 第24-25页 |
| 2.2.3 管式氧化炉 | 第25页 |
| 2.2.4 其它设备 | 第25-26页 |
| 2.3 实验方法 | 第26-27页 |
| 2.3.1 Zr-Si-B_4C反应烧结过渡层的制备 | 第26页 |
| 2.3.2 ZrB_2-SiC基阻氧层的制备 | 第26-27页 |
| 2.3.3 CVD SiC封填层的制备 | 第27页 |
| 2.4 涂层的表征及性能检测 | 第27-29页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析 | 第27页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜(SEM)及能谱仪(EDS)分析 | 第27页 |
| 2.4.3 抗氧化性能检测 | 第27-28页 |
| 2.4.4 抗烧蚀性能测试 | 第28-29页 |
| 3 SiC/ZrB_2-SiC基涂层的制备及微观形貌研究 | 第29-43页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 Zr-Si-B_4C反应烧结过渡层的制备 | 第29-34页 |
| 3.2.1 预涂层的制备 | 第30页 |
| 3.2.2 涂层的烧结 | 第30-31页 |
| 3.2.3 基体密度对涂层宏观形貌的影响 | 第31-32页 |
| 3.2.4 涂层的相组成 | 第32-33页 |
| 3.2.5 涂层的微观形貌 | 第33-34页 |
| 3.3 ZrB_2-SiC基氧阻挡层的制备 | 第34-41页 |
| 3.3.1 第三相的选择 | 第34-35页 |
| 3.3.2 宏观形貌 | 第35页 |
| 3.3.3 物相分析 | 第35-36页 |
| 3.3.4 不同第三相对氧阻挡层微观形貌的影响 | 第36-39页 |
| 3.3.5 不同基体对氧阻挡层微观形貌的影响 | 第39-41页 |
| 3.4 化学气相沉积SiC封填层的制备 | 第41-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 4 ZrB_2-SiC基陶瓷涂层抗氧化性能的研究 | 第43-55页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 涂层900℃等温氧化性能研究 | 第43-47页 |
| 4.2.1 氧化曲线 | 第43-45页 |
| 4.2.2 氧化后微观形貌 | 第45-46页 |
| 4.2.3 氧化机理分析 | 第46-47页 |
| 4.3 涂层1500℃等温氧化性能研究 | 第47-53页 |
| 4.3.1 氧化曲线 | 第47-48页 |
| 4.3.2 氧化后物相分析 | 第48-49页 |
| 4.3.3 氧化后微观形貌 | 第49-52页 |
| 4.3.4 氧化机理分析 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 5 ZrB_2-SiC基陶瓷涂层抗烧蚀性能的研究 | 第55-70页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 不同成分ZrB_2-SiC基涂层的抗烧蚀性能 | 第55-56页 |
| 5.3 不同成分ZrB_2-SiC基涂层烧蚀前后表面宏观形貌 | 第56-59页 |
| 5.3.1 烧蚀表面一般形貌 | 第56-57页 |
| 5.3.2 ZSS涂层烧蚀前后表面宏观形貌 | 第57-58页 |
| 5.3.3 ZSM涂层烧蚀前后表面宏观形貌 | 第58页 |
| 5.3.4 ZST涂层烧蚀前后表面宏观形貌 | 第58-59页 |
| 5.3.5 SiC/ZSS涂层烧蚀前后表面宏观形貌 | 第59页 |
| 5.4 不同成分ZrB_2-SiC基涂层烧蚀后表面物相组成 | 第59-62页 |
| 5.4.1 ZSS涂层烧蚀后表面物相组成 | 第59-60页 |
| 5.4.2 ZSM涂层烧蚀后表面物相组成 | 第60-61页 |
| 5.4.3 ZST涂层烧蚀后表面物相组成 | 第61页 |
| 5.4.4 SiC/ZSS涂层烧蚀后表面物相组成 | 第61-62页 |
| 5.5 不同成分ZrB_2-SiC基涂层烧蚀后表面微观形貌 | 第62-67页 |
| 5.5.1 ZSS涂层烧蚀后表面微观形貌 | 第62-64页 |
| 5.5.2 ZSM涂层烧蚀后表面微观形貌 | 第64-65页 |
| 5.5.3 ZST涂层烧蚀后表面微观形貌 | 第65-66页 |
| 5.5.4 SiC/ZSS涂层烧蚀后表面微观形貌 | 第66-67页 |
| 5.6 ZrB_2-SiC基陶瓷涂层的烧蚀机制 | 第67-68页 |
| 5.7 本章小结 | 第68-70页 |
| 6 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 攻读硕士学位期间主要研究成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
