| 目录 | 第5-9页 |
| 摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-54页 |
| 1 水体的砷污染 | 第14-27页 |
| 1.1 砷的来源 | 第14-15页 |
| 1.2 砷在环境中的存在形态及相互转化 | 第15-17页 |
| 1.3 砷对人体健康的危害 | 第17-19页 |
| 1.4 水体的砷污染现状 | 第19-20页 |
| 1.5 水中砷除去工艺 | 第20-24页 |
| 1.6 As(Ⅲ)的氧化技术 | 第24-27页 |
| 2 TIO_2光催化氧化机理 | 第27-37页 |
| 2.1 TiO_2晶体结构 | 第27-28页 |
| 2.2 TiO_2能带结构 | 第28-30页 |
| 2.3 TiO_2光催化反应原理 | 第30-32页 |
| 2.4 TiO_2光催化反应原理研究的几点争论 | 第32-37页 |
| 2.4.1 光催化反应发生在催化剂表面还是溶液中 | 第33-34页 |
| 2.4.2 光生空穴在界面直接迁移还是间接迁移 | 第34-37页 |
| 2.4.3 超氧自由基的贡献 | 第37页 |
| 3 TIO_2光催化氧化As(Ⅲ)的机理研究 | 第37-43页 |
| 3.1 TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)的机理 | 第37-39页 |
| 3.2 TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)的机理研究现状 | 第39-43页 |
| 3.2.1 超氧自由基氧化机理 | 第39-40页 |
| 3.2.2 光生空穴直接氧化机理 | 第40-41页 |
| 3.2.3 羟基自由基氧化机理 | 第41-43页 |
| 4 研究目的,意义及研究内容 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-54页 |
| 第二章 实验部分 | 第54-64页 |
| 1 化学试剂和实验仪器 | 第54-57页 |
| 1.1 化学试剂和规格 | 第54-56页 |
| 1.2 实验仪器 | 第56-57页 |
| 2 研究方法 | 第57-63页 |
| 2.1 电化学和光电化学测试方法 | 第57-59页 |
| 2.3 光电催化降解试验 | 第59-61页 |
| 2.4 光电化学防腐蚀试验 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第三章 TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)机理：超氧自由基的作用 | 第64-91页 |
| 1 引言 | 第64-65页 |
| 2 理论背景 | 第65-67页 |
| 3 实验方法 | 第67-69页 |
| 3.1 SG-TiO_2光电极 | 第67-68页 |
| 3.2 电化学和光电化测试 | 第68页 |
| 3.3 光催化和光电催化降解试验 | 第68-69页 |
| 4 结果与讨论 | 第69-85页 |
| 4.1 电化学和光电化测试 | 第69-74页 |
| 4.2 暗态下As(Ⅲ)降解实验 | 第74-76页 |
| 4.3 光照下As(Ⅲ)降解实验 | 第76-83页 |
| 4.4 As(Ⅲ)的氧化过程中,超氧自由基的贡献 | 第83-85页 |
| 5 本章小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-91页 |
| 第四章 TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)机理：空穴直接和间接氧化 | 第91-133页 |
| 1 引言 | 第91-93页 |
| 2 数学模型的推导 | 第93-99页 |
| 2.1 空穴间接氧化机理 | 第93-98页 |
| 2.2 空穴直接氧化机理 | 第98-99页 |
| 3 实验方法 | 第99-101页 |
| 3.1 电极制备 | 第99-100页 |
| 3.2 饱和光电流测试 | 第100-101页 |
| 3.3 光电催化降解实验 | 第101页 |
| 3.4 吸附实验 | 第101页 |
| 4 结果与讨论 | 第101-126页 |
| 4.1 饱和光电流测试 | 第101-108页 |
| 4.2 叔丁醇和甲酸钠的影响 | 第108-116页 |
| 4.3 氟化钠和碘化钾的影响 | 第116-123页 |
| 4.4 As(Ⅲ)浓度的影响 | 第123-126页 |
| 5 本章小结 | 第126-127页 |
| 参考文献 | 第127-133页 |
| 第五章 氟化TiO_2对碳钢的光电化学防护 | 第133-150页 |
| 1 引言 | 第133-134页 |
| 2 实验方法 | 第134-137页 |
| 2.1 电极制备 | 第134-135页 |
| 2.2 电化学和光电化学测试 | 第135-136页 |
| 2.3 碳钢的光电化学保护实验 | 第136-137页 |
| 3 结果与讨论 | 第137-146页 |
| 3.1 饱和光电流 | 第137-139页 |
| 3.2 电化学阻抗谱 | 第139-141页 |
| 3.3 线性扫描伏安曲线 | 第141-145页 |
| 3.4 碳钢的光电化学保护 | 第145-146页 |
| 4 结论 | 第146-147页 |
| 参考文献 | 第147-150页 |
| 第六章 全文总结 | 第150-151页 |
| 论文创新点 | 第151-152页 |
| 附录：攻读博士学位期间完成的学术论文 | 第152-153页 |
| 致谢 | 第153页 |
