| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-26页 |
| 1.1 化学机械抛光技术 | 第11-13页 |
| 1.1.1 化学机械抛光技术概述 | 第11-12页 |
| 1.1.2 化学机械抛光原理和特点 | 第12-13页 |
| 1.1.3 化学机械抛光技术的研究现状及发展趋势 | 第13页 |
| 1.2 化学机械抛光的影响因素及抛光效果评价指标 | 第13-17页 |
| 1.2.1 抛光液化学机械抛光的影响因素 | 第13-16页 |
| 1.2.2 抛光效果评价指标 | 第16-17页 |
| 1.3 电化学机械抛光技术 | 第17-20页 |
| 1.3.1 电化学-CMP(ECMP) | 第17-19页 |
| 1.3.2 电化学分析 | 第19-20页 |
| 1.4 CeO_2磨料的制备研究进展 | 第20-23页 |
| 1.4.1 纳米 CeO_2的结构与性质概述 | 第20-21页 |
| 1.4.2 纳米 CeO_2磨料的制备方法 | 第21-23页 |
| 1.5 国内外金属钌化学机械抛光 | 第23-25页 |
| 1.5.1 钌 | 第23-24页 |
| 1.5.2 钌化学机械抛光研究现状 | 第24-25页 |
| 1.6 本课题研究的内容及意义 | 第25-26页 |
| 第二章 醋酸-过氧化氢体系中钌的化学机械抛光研究 | 第26-38页 |
| 2.1 前言 | 第26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-28页 |
| 2.2.1 化学机械抛光试验材料 | 第26-27页 |
| 2.2.2 化学机械抛光实验 | 第27页 |
| 2.2.3 电化学实验 | 第27页 |
| 2.2.4 元素形态和表面形貌分析 | 第27-28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-36页 |
| 2.4 结论 | 第36-38页 |
| 第三章 水杨酸-过氧化氢体系抛光液中钌的化学机械抛光研究 | 第38-47页 |
| 3.1 前言 | 第38页 |
| 3.2 实验部分 | 第38-39页 |
| 3.2.1 化学机械抛光实验 | 第38-39页 |
| 3.2.2 电化学实验 | 第39页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第39-45页 |
| 3.4 结论 | 第45-47页 |
| 第四章 咪唑在钌化学机械抛光过程的作用研究 | 第47-56页 |
| 4.1 引言 | 第47-48页 |
| 4.2 实验部分 | 第48页 |
| 4.2.1 化学机械抛光实验 | 第48页 |
| 4.2.2 电化学实验 | 第48页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第48-55页 |
| 4.4 结论 | 第55-56页 |
| 第五章 纳米氧化铈抛光液对钌的化学机械抛光 | 第56-64页 |
| 5.1 前言 | 第56-57页 |
| 5.2 实验部分 | 第57页 |
| 5.2.1 纳米 CeO_2粉体及 CeO_2抛光液的制备 | 第57页 |
| 5.2.2 CeO_2抛光液粒径分布及 Zeta 电势的测定 | 第57页 |
| 5.2.3 化学机械抛光实验 | 第57页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第57-62页 |
| 5.4 结论 | 第62-64页 |
| 第六章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 结论 | 第64-65页 |
| 6.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 本论文创新之处 | 第72-73页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
