摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第1章 绪论 | 第9-21页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 贵金属纳米材料 | 第10-11页 |
1.2.1 铂纳米材料 | 第10-11页 |
1.2.2 金纳米材料 | 第11页 |
1.3 电沉积纳米材料 | 第11-19页 |
1.3.1 电沉积技术的基本概念 | 第12页 |
1.3.2 电沉积的基本过程 | 第12-13页 |
1.3.3 电沉积过程的一般规律及特点 | 第13页 |
1.3.4 金属的电结晶 | 第13-14页 |
1.3.5 电沉积层的主要形态 | 第14-15页 |
1.3.6 不同晶面上金属的沉积速度 | 第15页 |
1.3.7 电沉积纳米材料的基本方法 | 第15-17页 |
1.3.8 影响电沉积镀层结构的主要因素 | 第17-19页 |
1.4 电沉积纳米材料的优势及应用 | 第19-20页 |
1.5 本论文的构思 | 第20-21页 |
第2章 铂多面体纳米材料的制备 | 第21-30页 |
2.1 前言 | 第21-22页 |
2.2 实验部分 | 第22-23页 |
2.2.1 实验试剂以及实验仪器 | 第22页 |
2.2.2 玻璃仪器处理 | 第22页 |
2.2.3 电化学实验 | 第22-23页 |
2.3 结果与讨论 | 第23-29页 |
2.3.1 Pt 多面体纳米材料的制备及其形貌表征 | 第23-24页 |
2.3.2 Pt 多面体纳米材料的形貌表征 | 第24-26页 |
2.3.3 调节电沉积时间 | 第26-28页 |
2.3.4 加入种子电沉积 Pt 多面体纳米材料(PPNs) | 第28-29页 |
2.4 小结 | 第29-30页 |
第3章 三维多孔金纳米网络的制备 | 第30-38页 |
3.1 前言 | 第30-31页 |
3.2 实验部分 | 第31页 |
3.2.1 实验试剂以及实验仪器 | 第31页 |
3.2.2 实验准备 | 第31页 |
3.3 结果与讨论 | 第31-37页 |
3.3.1 三维多孔金纳米网络(3D PGNs)的制备及形貌表征 | 第31-33页 |
3.3.2 CTAB 的浓度对三维多孔金纳米网络的影响 | 第33-35页 |
3.3.3 三维多孔金纳米网络的 TEM 表征 | 第35-37页 |
3.4 小结 | 第37-38页 |
第4章 三维多孔金纳米网络的合成机理 | 第38-44页 |
4.1 前言 | 第38页 |
4.2 实验部分 | 第38-39页 |
4.2.1 实验试剂以及实验仪器 | 第38-39页 |
4.2.2 实验准备 | 第39页 |
4.3 结果与讨论 | 第39-43页 |
4.3.1 CTAB 胶束形状对电沉积 3D PGNs 的影响 | 第39-41页 |
4.3.2 CTAB 端头盐对电沉积 3D PGNs 的影响 | 第41-42页 |
4.3.3 基底对电沉积 3D PGNs 形貌的影响 | 第42-43页 |
4.5 小结 | 第43-44页 |
结论 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-58页 |
附录 攻读学位期间论文发表情况 | 第58-59页 |
致谢 | 第59页 |