湿性机械镜面抛光机理及其应用技术的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 抛光技术的研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2 抛光材料去除机理的研究 | 第14-15页 |
| 1.3 研究课题背景及意义 | 第15-16页 |
| 1.4 研究内容及章节安排 | 第16-18页 |
| 1.4.1 研究内容 | 第16-17页 |
| 1.4.2 章节安排 | 第17-18页 |
| 1.5 本章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 湿性抛光去除机理研究 | 第19-32页 |
| 2.1 材料弹性性能 | 第19-20页 |
| 2.2 Preston方程 | 第20-21页 |
| 2.3 Hertz接触 | 第21-26页 |
| 2.3.1 Hertz接触理论 | 第21-23页 |
| 2.3.2 抛光Hertz接触模型 | 第23-26页 |
| 2.4 材料去除率建模 | 第26-28页 |
| 2.5 抛光理论模型化简 | 第28-30页 |
| 2.6 本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 湿式机械抛光效率的研究 | 第32-42页 |
| 3.1 抛光工艺实验方案设计和实验条件 | 第32-35页 |
| 3.1.1 实验条件 | 第32-34页 |
| 3.1.2 实验方案设计 | 第34-35页 |
| 3.2 材料去除率理论模型的MATLAB数值模拟 | 第35-37页 |
| 3.2.1 MATLAB软件简介 | 第35页 |
| 3.2.2 材料去除率模型理论的数值模拟准备 | 第35-37页 |
| 3.3 抛光实验与模拟结果 | 第37-41页 |
| 3.3.1 抛光轮转速对材料去除率的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.2 工件转速对材料去除率的影响 | 第38-40页 |
| 3.3.3 抛光法向压力对材料去除率的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 湿性机械镜面抛光工艺参数优化研究 | 第42-61页 |
| 4.1 试验方法的选择 | 第42页 |
| 4.2 湿性机械粗抛光工艺参数正交实验 | 第42-52页 |
| 4.2.1 实验设计 | 第42-44页 |
| 4.2.2 影响材料去除深度因素结果分析 | 第44-48页 |
| 4.2.3 影响材料表面粗糙度因素结果分析 | 第48-50页 |
| 4.2.4 湿性机械粗抛光工艺参数综合分析 | 第50-52页 |
| 4.3 湿性机械精抛光工艺参数正交实验 | 第52-59页 |
| 4.3.1 实验设计 | 第52-54页 |
| 4.3.2 影响材料去除深度因素结果分析 | 第54-55页 |
| 4.3.3 影响材料表面粗糙度因素结果分析 | 第55-57页 |
| 4.3.4 镜面湿性机械精抛光工艺参数综合分析 | 第57-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 生产情况及工艺优化措施 | 第61-75页 |
| 5.1 当前实际生产情况 | 第61-63页 |
| 5.1.1 加工工艺流程 | 第61-62页 |
| 5.1.2 抛光合格率统计与问题点 | 第62-63页 |
| 5.2 工艺改善思路 | 第63-64页 |
| 5.3 抛光质量问题分析与改善 | 第64-68页 |
| 5.3.1 产品问题分析 | 第64-66页 |
| 5.3.2 工艺改善 | 第66-67页 |
| 5.3.3 工艺改善效果 | 第67-68页 |
| 5.4 抛光效率问题分析与改善 | 第68-73页 |
| 5.4.1 产品问题分析 | 第68页 |
| 5.4.2 粗抛光工艺改善 | 第68-71页 |
| 5.4.3 精抛光工艺改善 | 第71-73页 |
| 5.5 抛光加工工艺改善效果 | 第73-74页 |
| 5.6 本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 总结与展望 | 第75-77页 |
| 6.1 总结 | 第75-76页 |
| 6.2 展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第82页 |
