高密度电阻率法模型正演与实验对比
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第1章 前言 | 第10-15页 |
·选题依据及研究意义 | 第10-11页 |
·电阻率成像技术国内外研究进展 | 第11-14页 |
·电阻率成像技术(RT)的基本概念 | 第11页 |
·电阻率成像技术的历史 | 第11-12页 |
·电阻率成像二维正演数值模拟的研究发展 | 第12-13页 |
·电阻率成像技术的发展趋势 | 第13-14页 |
·研究内容 | 第14-15页 |
第2章 电阻率成像技术的二维正演 | 第15-26页 |
·电阻率法的基本原理 | 第15-16页 |
·视电阻率的基本概念 | 第16-18页 |
·二维问题的视电阻率 | 第18-19页 |
·电阻率成像技术的正演理论 | 第19-26页 |
·有限元的基本思想 | 第20页 |
·基本方程 | 第20页 |
·稳定电流场的变分问题 | 第20-21页 |
·区域离散化 | 第21-22页 |
·线性插值 | 第22-23页 |
·变分问题离散化 | 第23-24页 |
·线性方程组的解法 | 第24页 |
·反傅氏变换的计算 | 第24-25页 |
·视电阻率及其定性分析方法 | 第25-26页 |
第3章 高密度电阻率法 | 第26-34页 |
·高密度电阻率法相对传统电法的特点 | 第26页 |
·基本方法原理 | 第26-29页 |
·场所满足的偏微分方程式 | 第26-27页 |
·三电位电极系 | 第27-28页 |
·视参数及其特点 | 第28-29页 |
·高密度电阻率法的数据处理 | 第29-32页 |
·正演计算 | 第29-30页 |
·反演计算 | 第30-32页 |
·高密度电阻率法所存在的问题 | 第32-34页 |
·深度问题 | 第32页 |
·排列装置选择和电极极距选择问题 | 第32页 |
·资料处理与资料解释 | 第32-34页 |
第4章 模型正演与实验结果对比 | 第34-50页 |
·低阻水平板状体模型 | 第34-38页 |
·低阻直立板状体模型 | 第38-42页 |
·高阻直立板状体模型 | 第42-46页 |
·高阻水平板状体模型 | 第46-49页 |
·小结 | 第49-50页 |
结论 | 第50-51页 |
致谢 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-55页 |
攻读学位期间取得学术成果 | 第55页 |