| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 超导材料发展历史 | 第11-13页 |
| 1.2 超导体主要性质 | 第13-16页 |
| 1.2.1 零电阻效应 | 第13页 |
| 1.2.2 迈斯纳效应 | 第13-14页 |
| 1.2.3 超导体分类 | 第14-16页 |
| 1.3 高温超导材料YBCO的性质 | 第16-17页 |
| 1.4 YBCO的主要应用 | 第17-18页 |
| 1.4.1 YBCO强电领域应用 | 第17-18页 |
| 1.4.2 YBCO弱电领域应用 | 第18页 |
| 1.5 YBCO超导薄膜的制备技术 | 第18-22页 |
| 1.6 论文选题意义及主要内容 | 第22-24页 |
| 第二章 光辅助MOCVD技术及YBCO薄膜表征手段 | 第24-35页 |
| 2.1 光辅助金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术 | 第24-28页 |
| 2.1.1 MOCVD技术简介 | 第24-25页 |
| 2.1.2 光辅助MOCVD生长技术 | 第25-28页 |
| 2.2 光辅助MOCVD技术制备YBCO薄膜 | 第28-31页 |
| 2.2.1 金属有机源选择 | 第28页 |
| 2.2.2 衬底选择 | 第28-29页 |
| 2.2.3 制备YBCO超导膜的实验流程 | 第29-31页 |
| 2.3 YBCO超导薄膜表征技术 | 第31-35页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第31-32页 |
| 2.3.2 原子力显微镜(AFM)分析 | 第32-33页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第33-34页 |
| 2.3.4 电学性能分析 | 第34-35页 |
| 第三章 BA源温度对YBCO外延膜的影响 | 第35-45页 |
| 3.1 研究背景 | 第35-36页 |
| 3.2 YBCO“贫钡”现象及其分析 | 第36-40页 |
| 3.3 BA源温度对YBCO薄膜的影响 | 第40-45页 |
| 3.3.1 实验设计 | 第40页 |
| 3.3.2 Ba源温度对YBCO薄膜结晶质量的影响 | 第40-43页 |
| 3.3.3 Ba源温度对YBCO薄膜表面的影响 | 第43-45页 |
| 第四章 YBCO/Y_2O_3/YBCO叠层膜的MOCVD生长研究 | 第45-56页 |
| 4.1 研究背景 | 第45-46页 |
| 4.2 Y_2O_3纳米点过渡层生长研究 | 第46-49页 |
| 4.2.1 实验条件 | 第46页 |
| 4.2.2 生长时间对Y_2O_3纳米点过渡层尺寸及密度的影响 | 第46-49页 |
| 4.3 YBCO叠层膜生长实验设计 | 第49-50页 |
| 4.4 YBCO/Y_2O_3/YBCO叠层膜的性质及表征 | 第50-56页 |
| 4.4.1 Y_2O_3纳米点生长时间对薄膜结构的影响 | 第50-52页 |
| 4.4.2 Y_2O_3纳米点生长时间对薄膜形貌的影响 | 第52-54页 |
| 4.4.3 Y_2O_3纳米点生长时间对薄膜临界电流密度的影响 | 第54-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 作者简介及研究生期间科研成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
