| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 钛合金的高温抗氧化性研究 | 第12-14页 |
| 1.2.1 钛合金的高温氧化 | 第12-13页 |
| 1.2.2 钛合金抗氧化性能改善的方法 | 第13-14页 |
| 1.3 钛合金表面抗高温氧化涂层的研究现状 | 第14-22页 |
| 1.3.1 包覆型涂层 | 第15-17页 |
| 1.3.2 扩散型涂层 | 第17-22页 |
| 1.3.3 卤素效应改性层 | 第22页 |
| 1.4 本文的主要目的和研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 试验材料与测试方法 | 第24-27页 |
| 2.1 试验用原材料及设备 | 第24-25页 |
| 2.1.1 试验用原材料及化学试剂 | 第24-25页 |
| 2.1.2 试验用仪器设备 | 第25页 |
| 2.2 涂层组织结构及成分分析 | 第25-26页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第25-26页 |
| 2.2.2 扫描电镜(SEM)观察及能谱(EDS)分析 | 第26页 |
| 2.2.3 涂层表面粗糙度测试 | 第26页 |
| 2.3 材料的高温氧化性能测试 | 第26-27页 |
| 第3章 TA15钛合金渗铝涂层的制备与表征 | 第27-35页 |
| 3.1 确定渗剂成分 | 第27页 |
| 3.2 供铝剂含量对固体粉末包埋渗铝工艺的影响 | 第27-30页 |
| 3.3 温度及保温时间对固体粉末包埋渗铝工艺的影响 | 第30-32页 |
| 3.4 固体粉末包埋渗铝层的组织形貌表征 | 第32-34页 |
| 3.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 硅铝共渗及微弧氧化复合涂层的制备与表征 | 第35-54页 |
| 4.1 渗硅涂层的制备与表征 | 第35-38页 |
| 4.1.1 硅粉含量对固体粉末包埋渗硅的影响 | 第35-36页 |
| 4.1.2 渗硅涂层的组织形貌与结构表征 | 第36-37页 |
| 4.1.3 渗硅涂层的抗氧化性能 | 第37-38页 |
| 4.2 硅铝共渗涂层的制备与表征 | 第38-48页 |
| 4.2.1 硅铝共渗层的制备工艺 | 第38-39页 |
| 4.2.2 15%Si+15%Al共渗涂层的制备与表征 | 第39-42页 |
| 4.2.3 10%Si+20%Al共渗涂层的制备与表征 | 第42-45页 |
| 4.2.4 2%Si/5%Si+25%Al共渗涂层的制备与表征 | 第45-48页 |
| 4.3 探索包埋渗及微弧氧化复合涂层的制备与表征 | 第48-53页 |
| 4.3.1 渗铝涂层及微弧氧化复合涂层的制备与表征 | 第49-51页 |
| 4.3.2 5%硅共渗涂层及微弧氧化复合涂层的制备与表征 | 第51-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 涂层的高温氧化行为 | 第54-89页 |
| 5.1 TA15合金高温氧化性能 | 第54-59页 |
| 5.1.1 TA15合金高温氧化产物 | 第54-58页 |
| 5.1.2 TA15合金的氧化动力学特征 | 第58-59页 |
| 5.2 渗铝涂层的高温氧化性能 | 第59-66页 |
| 5.2.1 渗铝涂层的高温氧化产物 | 第59-65页 |
| 5.2.2 渗铝涂层的氧化动力学特征 | 第65-66页 |
| 5.3 15%Si共渗涂层的高温氧化性能 | 第66-70页 |
| 5.3.1 15%Si共渗涂层的高温氧化产物 | 第66-69页 |
| 5.3.2 15%Si共渗涂层的氧化动力学特征 | 第69-70页 |
| 5.4 10%Si共渗涂层的高温氧化性能 | 第70-74页 |
| 5.4.1 10%Si共渗涂层的高温氧化产物 | 第70-73页 |
| 5.4.2 10%Si共渗涂层的氧化动力学特征 | 第73-74页 |
| 5.5 2%Si与 5%Si共渗涂层的高温氧化性能 | 第74-81页 |
| 5.5.1 2%Si与 5%Si共渗涂层的高温氧化产物 | 第74-79页 |
| 5.5.2 2%Si与 5%Si共渗涂层的氧化动力学特征 | 第79-81页 |
| 5.6 包埋渗及微弧氧化复合涂层的高温氧化性能 | 第81-85页 |
| 5.6.1 包埋渗及微弧氧化复合涂层的高温氧化产物 | 第81-84页 |
| 5.6.2 包埋渗及微弧氧化复合涂层的氧化动力学特征 | 第84-85页 |
| 5.7 不同涂层抗氧化性能比较 | 第85-87页 |
| 5.8 包埋渗涂层的高温氧化机理 | 第87页 |
| 5.9 本章小结 | 第87-89页 |
| 结论 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-96页 |
| 致谢 | 第96页 |
