| 中文摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 中红外波段激光简介 | 第12-14页 |
| 1.1.1 中红外3μm波段激光研究进展 | 第12-13页 |
| 1.1.2 中红外1.6μm波段激光研究进展 | 第13-14页 |
| 1.2 新型二维可饱和吸收材料 | 第14-15页 |
| 1.3 调Q脉冲激光技术 | 第15-16页 |
| 1.4 本文使用的增益介质简介 | 第16-18页 |
| 1.5 第一性原理计算 | 第18-19页 |
| 1.6 本文的主要研究工作 | 第19-22页 |
| 第二章 基于二维材料的可饱和吸收体的可饱和吸收机理研究、制备及表征 | 第22-33页 |
| 2.1 过渡金属硫化物的可饱和吸收机理研究 | 第22-25页 |
| 2.2 二维可饱和吸收体的制备 | 第25-26页 |
| 2.3 二维可饱和吸收体的表征 | 第26-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 基于二维可饱和吸收体2.95μm波段调Q脉冲激光特性研究 | 第33-44页 |
| 3.1 基于二维可饱和吸收体的Ho,Pr:LLF调Q激光实验装置 | 第33-34页 |
| 3.2 基于MoSe_2可饱和吸收体的Ho,Pr:LLF调Q脉冲激光特性研究 | 第34-37页 |
| 3.3 基于MoTe_2可饱和吸收体的Ho,Pr:LLF调Q脉冲激光特性研究 | 第37-39页 |
| 3.4 基于WTe_2可饱和吸收体的Ho,Pr:LLF调Q脉冲激光特性研究 | 第39-42页 |
| 3.5 本章总结 | 第42-44页 |
| 第四章 基于二维可饱和吸收体2.85μm波段调Q脉冲激光特性研究 | 第44-51页 |
| 4.1 基于WSe_2可饱和吸收体的Er:Lu_2O_3调Q激光实验装置 | 第44-45页 |
| 4.2 基于WSe_2可饱和吸收体的Er:Lu_2O_3调Q脉冲激光特性研究 | 第45-49页 |
| 4.3 本章总结 | 第49-51页 |
| 第五章 基于二维可饱和吸收体1.6μm波段调Q脉冲激光特性研究 | 第51-58页 |
| 5.1 基于MoWS_2可饱和吸收体的Er:YAG调Q激光实验装置 | 第51-52页 |
| 5.2 基于MoWS_2可饱和吸收体的Er:YAG调Q脉冲激光特性研究 | 第52-56页 |
| 5.3 本章总结 | 第56-58页 |
| 第六章 全文总结 | 第58-60页 |
| 6.1 本文的主要研究内容 | 第58-59页 |
| 6.2 不足之处和待研究的问题 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 攻读学位期间参加的项目、获得的奖励及发表的论文 | 第71-73页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第73页 |
