| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第9页 |
| 1.2 国内外磁流体制备及应用研究进展 | 第9-16页 |
| 1.2.1 磁流体发展进程及应用 | 第9-12页 |
| 1.2.2 磁流体在光学领域上的应用 | 第12-16页 |
| 1.3 课题来源 | 第16页 |
| 1.4 本论文的研究内容 | 第16-19页 |
| 第2章 磁流体制备及主要物理特性 | 第19-33页 |
| 2.1 磁流体的概述及主要类型 | 第19-22页 |
| 2.2 磁流体的主要物理特性 | 第22-25页 |
| 2.2.1 磁流体稳定性分析 | 第22-23页 |
| 2.2.2 磁流体的磁化特性 | 第23-24页 |
| 2.2.3 磁流体的磁驰豫特性 | 第24-25页 |
| 2.3 磁流体的光学特性 | 第25-32页 |
| 2.3.0 磁流体的折射率可控性 | 第25-27页 |
| 2.3.1 磁流体的热镜效应 | 第27-28页 |
| 2.3.2 磁流体的双折射效应 | 第28-29页 |
| 2.3.3 磁流体透射特性 | 第29-30页 |
| 2.3.4 磁流体旋光效应 | 第30-31页 |
| 2.3.5 磁流体的磁致分色现象 | 第31-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 基于蒙特卡洛方法的磁流体微观结构研究 | 第33-45页 |
| 3.1 磁流体微观结构的物理模型 | 第34-37页 |
| 3.1.1 磁性粒子受到的作用势 | 第34-37页 |
| 3.1.2 磁性颗粒的平衡条件 | 第37页 |
| 3.2 基于蒙特卡洛方法的磁流体微观结构模拟 | 第37-43页 |
| 3.2.1 基于蒙特卡洛方法的无外加磁场的磁流体微观结构的模拟 | 第38-40页 |
| 3.2.2 基于蒙特卡洛方法在不同磁场下的磁流体微观结构的模拟 | 第40-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 磁流体光学透射特性理论研究 | 第45-55页 |
| 4.1 米氏散射理论 | 第45-47页 |
| 4.2 基于蒙特卡洛方法的磁流体光学透射特性模拟 | 第47-53页 |
| 4.2.1 基于蒙特卡洛法的光传递概率模型 | 第47-49页 |
| 4.2.2 物理模型 | 第49-51页 |
| 4.2.3 磁流体光学透射特性 | 第51-53页 |
| 4.3 本章小结 | 第53-55页 |
| 第5章 磁流体光学透射特性实验研究 | 第55-71页 |
| 5.1 实验原理 | 第55-56页 |
| 5.2 实验平台的设计与搭建 | 第56-63页 |
| 5.2.1 磁流体薄膜的设计与制作 | 第59-61页 |
| 5.2.2 外部磁场的设计与搭建 | 第61-63页 |
| 5.3 磁流体光学透射特性的实验研究 | 第63-69页 |
| 5.3.1 磁流体透射响应时间实验研究 | 第63-64页 |
| 5.3.2 光线平行于磁场方向入射时,磁流体光学透射特性 | 第64-66页 |
| 5.3.3 光线垂直于磁场方向入射时,磁流体光学透射特性 | 第66-67页 |
| 5.3.4 EMG605重复性及回程误差 | 第67-69页 |
| 5.4 本章小结 | 第69-71页 |
| 第6章 总结与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 论文总结 | 第71-72页 |
| 6.2 研究展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
