| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的 | 第9-10页 |
| 1.2 电沉积镍制作 MEMS 器件的优势 | 第10-11页 |
| 1.3 镍基 MEMS 结构与器件实例 | 第11-13页 |
| 1.4 电沉积镍存在的问题 | 第13-14页 |
| 1.5 蠕变理论研究及改善电镀镍蠕变性能的途径 | 第14-17页 |
| 1.5.1 蠕变现象及蠕变理论 | 第14-15页 |
| 1.5.2 改善电沉积镍低温蠕变性能的途径 | 第15-17页 |
| 1.6 本文的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 材料及试验方法 | 第19-25页 |
| 2.1 材料制备 | 第19-20页 |
| 2.2 实验方法 | 第20-25页 |
| 2.2.1 组织成分的测定 | 第20页 |
| 2.2.2 镀层硬度测试 | 第20-21页 |
| 2.2.3 XRD 晶体组织分析 | 第21页 |
| 2.2.4 导电性能测试 | 第21-22页 |
| 2.2.5 单调拉伸测试及断口分析 | 第22-23页 |
| 2.2.6 SEM 原位拉伸试验 | 第23页 |
| 2.2.7 蠕变性能测试 | 第23-24页 |
| 2.2.8 TEM 组织分析 | 第24-25页 |
| 第3章 复合 Al_2O_3np对电镀镍微观结构的影响 | 第25-35页 |
| 3.1 镀液中 Al_2O_3np的添加量对镀层成分的影响 | 第25-27页 |
| 3.2 复合 Al_2O_3np对镀镍层表面形貌的影响 | 第27-28页 |
| 3.3 复合 Al_2O_3np对镀镍层晶体结构的影响 | 第28-30页 |
| 3.4 复合 Al_2O_3np对镀镍层硬度的影响 | 第30-31页 |
| 3.5 复合 Al_2O_3np对镀镍层电阻率的影响 | 第31-32页 |
| 3.6 纯 Ni 与 Al_2O_3np/Ni 内部组织 TEM 分析 | 第32-34页 |
| 3.7 本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 纯 Ni 与 Al_2O_3np/Ni 镀层形变与断裂微观机理 | 第35-50页 |
| 4.1 单调拉伸试验 | 第35-37页 |
| 4.1.1 纯 Ni 镀层的拉伸力学性能试验 | 第35-36页 |
| 4.1.2 Al_2O_3np/Ni 镀层的拉伸力学性能试验 | 第36-37页 |
| 4.2 Al_2O_3np/Ni 镀层的拉伸断口分析 | 第37-40页 |
| 4.2.1 纯 Ni 镀层的拉伸断口 | 第37-38页 |
| 4.2.2 Al_2O_3np/Ni 镀层的拉伸断口 | 第38-40页 |
| 4.3 SEM 原位拉伸分析 | 第40-45页 |
| 4.3.1 纯 Ni 试样的 SEM 原位拉伸分析 | 第41-43页 |
| 4.3.2 Al_2O_3np/Ni 镀层 SEM 原位拉伸分析 | 第43-45页 |
| 4.4 Al_2O_3np/Ni 镀层的强化机理 | 第45-48页 |
| 4.4.1 细晶强化 | 第45-46页 |
| 4.4.2 弥散强化 | 第46-48页 |
| 4.4.3 采用分析结果对试验现象的解释 | 第48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 电沉积纯 Ni 与 Al_2O_3np/Ni 的蠕变性能 | 第50-60页 |
| 5.1 温度对 Ni 基镀层蠕变性能的影响 | 第50-53页 |
| 5.1.1 温度对纯 Ni 镀层蠕变性能的影响 | 第50-51页 |
| 5.1.2 温度对 Al_2O_3np/Ni 镀层蠕变性能的影响 | 第51-52页 |
| 5.1.3 分析与讨论 | 第52-53页 |
| 5.2 Al_2O_3np/Ni 蠕变门槛应力计算 | 第53-55页 |
| 5.3 蠕变前后组织结构分析 | 第55-57页 |
| 5.3.1 纯 Ni 镀层组织结构 TEM 分析 | 第55-56页 |
| 5.3.2 Al_2O_3np/Ni 镀层组织结构 TEM 分析 | 第56-57页 |
| 5.4 蠕变机制的初步讨论 | 第57-59页 |
| 5.4.1 纯 Ni 镀层蠕变机制 | 第57-58页 |
| 5.4.2 Al_2O_3np/Ni 镀层蠕变机制 | 第58-59页 |
| 5.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
