基于多层结构超材料的光刻成像质量分析
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第1章 绪论 | 第8-15页 |
1.1 课题研究背景和意义 | 第8-9页 |
1.2 国内外研究现状 | 第9-13页 |
1.3 论文主要内容 | 第13-15页 |
第2章 多层金属薄膜超透镜超分辨成像理论 | 第15-26页 |
2.1 金属 DRUDE 模型和成像衍射极限 | 第15-19页 |
2.1.1 自由电子气模型与 Drude 模型 | 第15-18页 |
2.1.2 成像衍射极限 | 第18-19页 |
2.2 多层金属薄膜超透镜超分辨成像原理 | 第19-22页 |
2.2.1 多层金属薄膜超透镜原理 | 第19-21页 |
2.2.2 多层金属薄膜的色散关系 | 第21-22页 |
2.3 超透镜金属反射层的理论分析 | 第22-25页 |
2.3.1 反射成像分析 | 第22-24页 |
2.3.2 等离体反射板 | 第24-25页 |
2.4 本章小结 | 第25-26页 |
第3章 多层金属薄膜超透镜光刻成像质量分析 | 第26-33页 |
3.1 多层金属薄膜超透镜光刻结构及其成像原理 | 第26-27页 |
3.1.1 模型的建立及参数设定 | 第26-27页 |
3.2 分析影响光刻成像质量的因素 | 第27-32页 |
3.2.1 加入金属反射层对光刻成像质量的影响 | 第27-29页 |
3.2.2 光栅周期对光刻成像的影响 | 第29-30页 |
3.2.3 超透镜结构的改变对光刻成像质量的影响 | 第30-32页 |
3.3 本章小结 | 第32-33页 |
第4章 超材料及其在超分辨成像中的应用 | 第33-48页 |
4.1 可见光范围内超材料 | 第33-34页 |
4.2 S-散射参数提取方法和电磁参数 | 第34-38页 |
4.2.1 S-参数提取 | 第35-36页 |
4.2.2 S-参数提取方法 | 第36-38页 |
4.3 超材料电磁参数和有效折射率 | 第38-43页 |
4.4 超材料光刻成像 | 第43-47页 |
4.4.1 不同距离对成像的影响 | 第43-46页 |
4.4.2 不同厚度对成像的影响 | 第46-47页 |
4.5 本章小结 | 第47-48页 |
结论 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-54页 |
致谢 | 第54页 |