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基于多层结构超材料的光刻成像质量分析

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第8-15页
    1.1 课题研究背景和意义第8-9页
    1.2 国内外研究现状第9-13页
    1.3 论文主要内容第13-15页
第2章 多层金属薄膜超透镜超分辨成像理论第15-26页
    2.1 金属 DRUDE 模型和成像衍射极限第15-19页
        2.1.1 自由电子气模型与 Drude 模型第15-18页
        2.1.2 成像衍射极限第18-19页
    2.2 多层金属薄膜超透镜超分辨成像原理第19-22页
        2.2.1 多层金属薄膜超透镜原理第19-21页
        2.2.2 多层金属薄膜的色散关系第21-22页
    2.3 超透镜金属反射层的理论分析第22-25页
        2.3.1 反射成像分析第22-24页
        2.3.2 等离体反射板第24-25页
    2.4 本章小结第25-26页
第3章 多层金属薄膜超透镜光刻成像质量分析第26-33页
    3.1 多层金属薄膜超透镜光刻结构及其成像原理第26-27页
        3.1.1 模型的建立及参数设定第26-27页
    3.2 分析影响光刻成像质量的因素第27-32页
        3.2.1 加入金属反射层对光刻成像质量的影响第27-29页
        3.2.2 光栅周期对光刻成像的影响第29-30页
        3.2.3 超透镜结构的改变对光刻成像质量的影响第30-32页
    3.3 本章小结第32-33页
第4章 超材料及其在超分辨成像中的应用第33-48页
    4.1 可见光范围内超材料第33-34页
    4.2 S-散射参数提取方法和电磁参数第34-38页
        4.2.1 S-参数提取第35-36页
        4.2.2 S-参数提取方法第36-38页
    4.3 超材料电磁参数和有效折射率第38-43页
    4.4 超材料光刻成像第43-47页
        4.4.1 不同距离对成像的影响第43-46页
        4.4.2 不同厚度对成像的影响第46-47页
    4.5 本章小结第47-48页
结论第48-49页
参考文献第49-54页
致谢第54页

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